Ed
há 8 meses
A etapa da fotolitografia mencionada na sua pergunta tem como objetivo reduzir a umidade da superfície do substrato, o que é crucial para garantir a aderência do filme de fotorresiste. Analisando as alternativas: (A) desidratação - Esta opção se refere exatamente ao processo de remoção da umidade da superfície do substrato, o que está alinhado com o objetivo descrito. (B) aplicação do promotor de aderência - Embora importante, essa etapa não se concentra especificamente na remoção da umidade. (C) aplicação do fotorresiste - Esta etapa envolve a aplicação do material, mas não se foca na umidade. (D) exposição do fotorresiste - Refere-se à etapa em que o fotorresiste é exposto à luz, não à remoção de umidade. (E) revelação - Esta etapa ocorre após a exposição e não está relacionada à umidade do substrato. Portanto, a alternativa correta é: (A) desidratação.
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