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Etapa da fotolitografia que tem como objetivo reduzir, ao máximo possível, a umidade da superfície do substrato, tendo como variáveis relevantes no controle do processo: a umidade relativa do ambiente, a temperatura do ambiente e da placa quente/estufa e também o tempo de desidratação, além de influenciar significativamente na aderência do filme de fotorresiste ao substrato.
Com base no exposto, é correto afirmar que a referida etapa é denominada
(A) desidratação.
(B) aplicação do promotor de aderência.
(C) aplicação do fotorresiste.
(D) exposição do fotorresiste.
(E) revelação.
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Aprendendo Através de Exercícios

há 8 meses

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há 8 meses

A etapa da fotolitografia mencionada na sua pergunta tem como objetivo reduzir a umidade da superfície do substrato, o que é crucial para garantir a aderência do filme de fotorresiste. Analisando as alternativas: (A) desidratação - Esta opção se refere exatamente ao processo de remoção da umidade da superfície do substrato, o que está alinhado com o objetivo descrito. (B) aplicação do promotor de aderência - Embora importante, essa etapa não se concentra especificamente na remoção da umidade. (C) aplicação do fotorresiste - Esta etapa envolve a aplicação do material, mas não se foca na umidade. (D) exposição do fotorresiste - Refere-se à etapa em que o fotorresiste é exposto à luz, não à remoção de umidade. (E) revelação - Esta etapa ocorre após a exposição e não está relacionada à umidade do substrato. Portanto, a alternativa correta é: (A) desidratação.

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