A dopagem de materiais semicondutores consiste em adicionar impurezas próprias para fornecer elétrons em excesso, ou lacunas em excesso, ao materia...

A dopagem de materiais semicondutores consiste em adicionar impurezas próprias para fornecer elétrons em excesso, ou lacunas em excesso, ao material semicondutor, sendo o mais comum deles o silício (4 elétrons na camada de valência). O fósforo é muito utilizado na dopagem de materiais do tipo N por ter cinco elétrons na camada de valência. Consultando uma tabela periódica, que outro material pode ser usado para se obter um material do tipo N? a. Oxigênio. b. Boro. c. Gálio. d. Ferro. e. Bismuto.