Assinale a alternativa CORRETA:

I- A dopagem eletrônica é um processo que consiste em adicionar impurezas a um material semicondutor, com o objetivo de modificar suas propriedades elétricas.
II- O silício é o material semicondutor mais utilizado na fabricação de dispositivos eletrônicos.
III- Entre os elementos químicos usados na dopagem eletrônica, o silício teve papel pouco significativo na revolução da eletroeletrônica.

a) As sentenças II e III estão corretas.
b) As sentenças I e II estão corretas.
c) Somente a sentença I está correta.
d) Somente a sentença III está correta.

I- A dopagem eletrônica é um processo que consiste em adicionar impurezas a um material semicondutor, com o objetivo de modificar suas propriedades elétricas.
II- O silício é o material semicondutor mais utilizado na fabricação de dispositivos eletrônicos.
III- Entre os elementos químicos usados na dopagem eletrônica, o silício teve papel pouco significativo na revolução da eletroeletrônica.
a) As sentenças II e III estão corretas.
b) As sentenças I e II estão corretas.
c) Somente a sentença I está correta.
d) Somente a sentença III está correta.