Para que o cristal de silício tenha aplicação prática para a área de Elétrica, precisa passar por um procedimento chamado dopagem, que é um processo químico utilizado para adicionar quantidades bem reduzidas de impurezas ao Si. No processo de dopagem, surgem os materiais do tipo N e do tipo P, com características específicas. Baseando-se nisso, avalie as asserções a seguir e a relação proposta entre elas.
I. No processo de dopagem as impurezas difundidas com cinco elétrons de valência são chamadas de átomos doadores e as impurezas difundidas com três elétrons de valência são chamadas de átomos aceitadores ou receptores.
PORQUE
II. Em um material do tipo N, o elétron é chamado de portador majoritário e a lacuna de portador minoritário e, em um material do tipo P, a lacuna é o portador majoritário e o elétron é o portador minoritário.
A respeito dessas asserções, assinale a opção correta:
a.
As asserções I e II são proposições falsas.
b.
A asserção I é uma proposição falsa, e a II é uma proposição verdadeira.
c.
As asserções I e II são proposições verdadeiras, e a II é uma justificativa da I.
d.
A asserção I é uma proposição verdadeira, e a II é uma proposição falsa.
e.
As asserções I e II são proposições verdadeiras, mas a II não é uma justificativa da I.
A resposta correta é a alternativa c) As asserções I e II são proposições verdadeiras, e a II é uma justificativa da I. No processo de dopagem, as impurezas difundidas com cinco elétrons de valência são chamadas de átomos doadores, enquanto as impurezas difundidas com três elétrons de valência são chamadas de átomos aceitadores ou receptores. Em um material do tipo N, o elétron é o portador majoritário e a lacuna é o portador minoritário, enquanto em um material do tipo P, a lacuna é o portador majoritário e o elétron é o portador minoritário.
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