Ed
há 3 meses
Vamos analisar as alternativas sobre dopagem em semicondutores: - Opção A: Errada. Dopagem não é purificação, mas sim a adição controlada de impurezas para modificar a condutividade. - Opção B: Errada. Semicondutores tipo n são obtidos pela introdução de átomos com mais elétrons de valência, não menos, gerando elétrons livres, não buracos. - Opção C: Correta. Dopagem tipo n adiciona átomos com mais elétrons de valência (ex: fósforo, arsênio no silício), criando níveis doadores próximos à banda de condução; dopagem tipo p adiciona átomos com menos elétrons de valência (ex: boro, alumínio, gálio), gerando buracos na banda de valência, aumentando a condutividade. - Opção D: Errada. Inverte os conceitos de tipo p e tipo n. - Opção E: Errada. Dopagem não aumenta a lacuna de banda, ela cria níveis de energia dentro da lacuna para facilitar a condução. Portanto, a alternativa correta é a Opção C.
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