Logo Passei Direto
Buscar
Pergunta 4 A indústria de dispositivos eletrônicos, como diodos e transistores, depende fundamentalmente do controle preciso das propriedades elétricas dos semicondutores. Diferentemente dos metais (que possuem banda parcialmente preenchida ou sobreposta) e dos isolantes (com grande lacuna de banda), os semicondutores têm uma lacuna de banda intermediária. Para modular sua condutividade e funcionalidade, emprega-se a técnica de dopagem. Sobre a dopagem em semicondutores, é correto afirmar que: Opção A A dopagem consiste em purificar o material semicondutor até atingir um estado intrínseco. Opção B Semicondutores tipo n são obtidos pela introdução de átomos com menos elétrons de valência, gerando "buracos" para a condução. Selecionado Opção C A dopagem tipo n introduz elétrons adicionais (ex: P ou As no Si), criando níveis doadores próximos à banda de condução, e a dopagem tipo p introduz átomos com menos elétrons de valência (ex: B, Al ou Ga no Si), gerando buracos na banda de valência, ambos aumentando a condutividade do material. Opção D Semicondutores tipo p são criados pela adição de dopantes que fornecem elétrons adicionais, enquanto semicondutores tipo n são formados por dopantes que geram buracos. Opção E A dopagem sempre aumenta a lacuna de banda, tornando o material mais isolante.
User badge image
Givaldo Ribeiro

há 3 meses

Respostas

User badge image

Ed Verified user icon

há 3 meses

Vamos analisar as alternativas sobre dopagem em semicondutores: - Opção A: Errada. Dopagem não é purificação, mas sim a adição controlada de impurezas para modificar a condutividade. - Opção B: Errada. Semicondutores tipo n são obtidos pela introdução de átomos com mais elétrons de valência, não menos, gerando elétrons livres, não buracos. - Opção C: Correta. Dopagem tipo n adiciona átomos com mais elétrons de valência (ex: fósforo, arsênio no silício), criando níveis doadores próximos à banda de condução; dopagem tipo p adiciona átomos com menos elétrons de valência (ex: boro, alumínio, gálio), gerando buracos na banda de valência, aumentando a condutividade. - Opção D: Errada. Inverte os conceitos de tipo p e tipo n. - Opção E: Errada. Dopagem não aumenta a lacuna de banda, ela cria níveis de energia dentro da lacuna para facilitar a condução. Portanto, a alternativa correta é a Opção C.

Essa resposta te ajudou?

0
Dislike0

Ainda não achou a resposta?

  • Integrado com os principais modelos de IA do mercado
  • Respostas em segundos
  • IA treinada para estudantes brasileiros.
PasseIA logoEvolua sua forma de estudar

Cadastre-se ou realize login

Ainda com dúvidas?

Envie uma pergunta e tenha sua dúvida de estudo respondida!