Análise de Falhas - Cap. VI

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Prof. Luiz Cláudio Cândido
ANÁLISE DE FALHAS
(Parte VI)
Prof. Leonardo Barbosa Godefroid
candido@em.ufop.br leonardo@demet.em.ufop.br
METALURGIA MECÂNICA
MINISTÉRIO DA EDUCAÇÃO E DO DESPORTO
Universidade Federal de Ouro Preto
Escola de Minas – Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais
Grupo de Estudo Sobre Fratura de Materiais
Telefax: 55 - 31 - 3559.1561 – E-mail: demet@em.ufop.br
MINISTÉRIO DA EDUCAÇÃO E DO DESPORTO
Universidade Federal de Ouro Preto
Escola de Minas – Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais
Grupo de Estudo Sobre Fratura de Materiais
Telefax: 55 - 31 - 3559.1561 – E-mail: demet@em.ufop.br
MINISTÉRIO DA EDUCAÇÃO E DO DESPORTO
Universidade Federal de Ouro Preto
Escola de Minas – Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais
Grupo de Estudo Sobre Fratura de Materiais
Telefax: 55 - 31 - 3559.1561 – E-mail: demet@em.ufop.br
MINISTÉRIO DA EDUCAÇÃO E DO DESPORTO
Universidade Federal de Ouro Preto
Escola de Minas – Departamento de Engenharia Metalúrgica e de Materiais
Grupo de Estudo Sobre Fratura de Materiais
Telefax: 55 - 31 - 3559.1561 – E-mail: demet@em.ufop.br
PPAARRTTEE IIII
TTÉÉCCNNIICCAASS DDEE AANNÁÁLLIISSEE
CCaappííttuulloo SSeeiiss::
AAnnáálliisseess FFrraaccttooggrrááffiiccaass
 MMiiccrroossccooppiiaa EElleettrrôônniiccaa ddee VVaarrrreedduurraa
 MMiiccrroossccooppiiaa EElleettrrôônniiccaa ddee TTrraannssmmiissssããoo
ANÁLISE DE FALHAS
Análises Fractográficas
6.1 - Introdução
FFiigguurraa 66..11 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree aass ddiiffeerreenntteess ttééccnniiccaass ddee aannáálliisseess eemm tteerrmmooss ddee aauummeennttoo..
MEV
Breve Histórico
M. Knoll (1935) - A microscopia eletrônica de varredura. Descrição e
concepção do MEV.
Von Ardenne (1938) - Construção do primeiro microscópio eletrônico
de transmissão.
Laboratórios da RCA (1942) - usado o detector de elétrons secundários
para obtenção da imagem.
Cambridge Scientific Instrument (1965) - primeiro MEV comercial.
MEV
Aspectos da Técnica
Versátil, usado rotineiramente para a análise microestrutural de materiais
sólidos.
O resultado é uma imagem de fácil interpretação.
Em relação ao microscópio ótico possui alta resolução, na ordem de 200
Angstrons.
Comparado com o MET a grande vantagem do MEV está na facilidade
de preparação das amostras.
Elevada profundidade de foco (imagem com aparência tridimensional).
Combina análise microestrutural com microanálise química.
MEV
Detector de
elétrons
Incidência
(bombardeamento)
de elétrons
Detector de
elétrons
Detector de
fotons
Elétrons
retroespalhados
Elétrons
secundários Detector de
raios X
Catodoluminescência Raios X
Força eletromotriz
Detector de
elétrons
Elétrons
transmitidos
 Amostra
Elétrons
absorvidos
FFiigguurraa 66..22 -- RReepprreesseennttaaççããoo eessqquueemmááttiiccaa ddoo ssiisstteemmaa ddee iinncciiddêênncciiaa ddee eellééttrroonnss nnaa ssuuppeerrffíícciiee ddee uummaa aammoossttrraa,, ssuuaass
ccoonnsseeqqüüêênncciiaass ee oo pprriinnccííppiioo ddaa mmiiccrroossccooppiiaa eelleettrrôônniiccaa..
 Feixe de elétrons
Superfície da amostra
Zona de emissão de
elétrons secundários
Zona de emissão de
elétrons retroespalhados
Zona de geração de raios - X
característicos
FFiigguurraa 66..33 -- RReepprreesseennttaaççããoo eessqquueemmááttiiccaa ddaa iinntteerraaççããoo ddee uumm ffeeiixxee ddee eellééttrroonnss ccoomm aa aammoossttrraa mmoossttrraannddoo aa pprrooffuunnddiiddaaddee ddee
ppeenneettrraaççããoo ((pp))..
Interação do feixe de elétrons com a 
superfície da amostra
Fonte de elétrons secundários
Fonte de elétrons retroespalhados 
Fonte de raios-X
Feixe de elétrons incidente 
amostra
Energias liberadas pela interação feixe - amostra
(a) Elétrons Retroespalhados
(b) Elétrons Secundários
Interação elástica
Mudança de direção sem
considerável perda de energia
cinética
Interação anelástica
Transferência de energia
do elétron primário para
o átomo
Energias liberadas pela interação feixe - amostra
(c) Fótons – raios-X
(d) Elétrons Auger
Formação de elétrons retroespalhados e secundários
SEI Elétrons secundários de alta resolução
SEII Elétrons secundários de baixa resolução
BSE Elétrons retroespalhados
B Elétrons primários
Formação de elétrons retroespalhados e secundários
6.2 - Microscopia Eletrônica de Varredura
(a)
Figura 6.4 - Representações esquemáticas do princípio de funcionamento de um MEV. 
Canhão de
elétrons
 Feixe de elétrons
 Primeira lente
condensadora
 Segunda lente
condensadora
Gerador de
varredura
condensa
dora Bobina de varredura
 Lente objetiva
 Amostra
Sistema de coleta de
elétrons
Amplificador
de sinal
Sistema
de vácuo
Tubo de raios
catódicos
(b)
 Abertura
Incidência
de feixe
de elétons
 Amostra
 Coletor de elétrons
 Cintilador
Para o amplificador
 Fotomultiplicador
Elétrons
secundários
 Gaiola de Faraday
 Tubo de luz
 Lentes eletrostáticas
FFiigguurraa 66..55 -- RReepprreesseennttaaççããoo eessqquueemmááttiiccaa ddoo ssiisstteemmaa ddee ccoolleettaa ddee eellééttrroonnss eemm uumm MMEEVV..
6.2 - Microscopia Eletrônica de Varredura
Construção de imagem e varredura da amostra
Um feixe de elétrons de alta energia é focalizado em um ponto da amostra,
causando a emissão de elétrons com grande espalhamento de energia que são
coletados por um detector e amplificados para fornecer sinal elétrico; este sinal é
usado para modular a intensidade do feixe de elétrons em tubo de raios catódicos
(TRC).
Preparação de Amostras
Metalização de amostras não condutoras com finalidade de aterramento
para evitar efeito de carregamento e imagens insatisfatórias; melhorar o
nível de emissão de elétrons.
Técnicas de recobrimento:
deposição de íons
evaporação de carbono
Metalizador - UFOP
(a)
(a´)
((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..66 -- MMiiccrroossccóóppiioo eelleettrrôônniiccoo ddee vvaarrrreedduurraa mmooddeelloo JJEEOOLL 55550000 ddaa EEssccoollaa ddee MMiinnaass//UUFFOOPP ((aa));; ppoorrttaa aammoossttrraa ccoomm 33 CCPPss
ffrraattuurraaddooss eemm eennssaaiiooss ddee ttrraaççããoo ((bb));; ssiisstteemmaa ddee aabbeerrttuurraa ddaa ccââmmaarraa oonnddee oo ppoorrttaa aammoossttrraa éé ccoollooccaaddoo ppaarraa aannáálliisseess aappóóss
eexxeeccuuççããoo ddee vvááccuuoo ((cc))..
((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..66 -- MMiiccrroossccóóppiioo eelleettrrôônniiccoo ddee vvaarrrreedduurraa mmooddeelloo JJEEOOLL 55550000 ddaa EEssccoollaa ddee MMiinnaass//UUFFOOPP ((aa));; ppoorrttaa aammoossttrraa ccoomm 33 CCPPss
ffrraattuurraaddooss eemm eennssaaiiooss ddee ttrraaççããoo ((bb));; ssiisstteemmaa ddee aabbeerrttuurraa ddaa ccââmmaarraa oonnddee oo ppoorrttaa aammoossttrraa éé ccoollooccaaddoo ppaarraa aannáálliisseess aappóóss
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((bb)) ((cc))
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ffrraattuurraaddooss eemm eennssaaiiooss ddee ttrraaççããoo ((bb));; ssiisstteemmaa ddee aabbeerrttuurraa ddaa ccââmmaarraa oonnddee oo ppoorrttaa aammoossttrraa éé ccoollooccaaddoo ppaarraa aannáálliisseess aappóóss
eexxeeccuuççããoo ddee vvááccuuoo ((cc))..
Eixo de articulação de carreta transportadora, com início de fratura por fadiga,e rasgamento final por tração.
INFORMAÇÕES OBTIDAS A PARTIR DA ANÁLISE VISUAL E MEV
INFORMAÇÕES OBTIDAS A PARTIR DA ANÁLISE VISUAL E MEV
FFiigguurraa 66..77 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaa ddee uumm aaççoo iinnooxxiiddáávveell 1188%%CCrr--11%%MMoo ffrraattuurraaddoo ppoorr iimmppaaccttoo aa 2255 
oo
CC,, pprreesseennççaa ddee
ffaacceettaass ddeecclliivvaaggeemm ee ““mmaarrccaass ddee rriiooss””,, ccaarraacctteerriizzaannddoo aa ffrraattuurraa ffrráággiill;; MMEEVV 117700 XX..
((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..88 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee uumm aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo,, ddoo ttiippoo AAIISSII 440099,, eennssaaiiaaddoo eemm:: ((aa)) ffaaddiiggaa ––
22..550000XX;; ((bb)) ttrraaççããoo –– 22..000000XX;; ((cc)) iiddeemm –– 22..550000XX;; nnoottaamm--ssee ppaarrttííccuullaass ddee sseegguunnddaa ffaassee;; eemm ((bb)) ee ((cc)) nniittrreettoo ddee
ttiittâânniioo nnooss ddiimmpplleess.. MMEEVV..
Pré-trinca
por fadiga
CST
FFiigguurraa 66..99 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaa ddee CCPP ddoo ttiippoo ttrraaççããoo--ccoommppaaccttoo eennssaaiiaaddoo ssoobb ccaarrggaa ccoonnssttaannttee eemm ccoorrrroossããoo ssoobb tteennssããoo ((CCSSTT));;
ssiisstteemmaa:: aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo AAIISSII 440099 ssoollddaaddoo ccoomm mmeettaall ddee aaddiiççããoo ddee aaççoo iinnooxxiiddáávveell aauusstteennííttiiccoo AAIISSII 330088//mmeeiioo
ccoonntteennddoo ssoolluuççõõeess aaqquuoossaass ddee MMggCCll22 ((TT 114433 
oo
CC));; llaaddoo eessqquueerrddoo ddaa lliinnhhaa ttrraacceejjaaddaa ((pprréé--ttrriinnccaa ppoorr ffaaddiiggaa ddoo CCPP));; llaaddoo
ddiirreeiittoo ((ffrraattuurraa ppoorr CCSSTT,, ttiippiiccaammeennttee ffrráággiill,, ccoomm ttrriinnccaass sseeccuunnddáárriiaass)).. MMEEVV 550000XX..
((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..1100 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee CCPP ddee ttuubboo ddee aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 440099 eennssaaiiaaddoo ssoobb ccoorrrroossããoo--
ffaaddiiggaa eemm mmeeiioo ccoonntteennddoo ccoonnddeennssaaddoo ssiinnttééttiiccoo ((ppHH 33,,00));; ((aa)) ttrraannssiiççããoo ffrraattuurraa ppoorr ffaaddiiggaa ((ssuuppeerriioorr)) ccoomm ffrraattuurraa ppoorr
ttrraaççããoo ((iinnffeerriioorr)) –– 220000XX;; ((bb)) rreeggiiããoo ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ((pprreesseennççaa ddee ddiimmpplleess)),, ppoorr ttrraaççããoo –– 11000000XX;; ((cc)) ddeessttaaccaamm--ssee ooss
ddiimmpplleess –– 33..000000XX.. MMEEVV..
((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..1100 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee CCPP ddee ttuubboo ddee aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 440099 eennssaaiiaaddoo ssoobb ccoorrrroossããoo--
ffaaddiiggaa eemm mmeeiioo ccoonntteennddoo ccoonnddeennssaaddoo ssiinnttééttiiccoo ((ppHH 33,,00));; ((aa)) ttrraannssiiççããoo ffrraattuurraa ppoorr ffaaddiiggaa ((ssuuppeerriioorr)) ccoomm ffrraattuurraa ppoorr
ttrraaççããoo ((iinnffeerriioorr)) –– 220000XX;; ((bb)) rreeggiiããoo ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ((pprreesseennççaa ddee ddiimmpplleess)),, ppoorr ttrraaççããoo –– 11000000XX;; ((cc)) ddeessttaaccaamm--ssee ooss
ddiimmpplleess –– 33..000000XX.. MMEEVV..
((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..1100 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee CCPP ddee ttuubboo ddee aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 440099 eennssaaiiaaddoo ssoobb ccoorrrroossããoo--
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((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..1100 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee CCPP ddee ttuubboo ddee aaççoo iinnooxxiiddáávveell ffeerrrrííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 440099 eennssaaiiaaddoo ssoobb ccoorrrroossããoo--
ffaaddiiggaa eemm mmeeiioo ccoonntteennddoo ccoonnddeennssaaddoo ssiinnttééttiiccoo ((ppHH 33,,00));; ((aa)) ttrraannssiiççããoo ffrraattuurraa ppoorr ffaaddiiggaa ((ssuuppeerriioorr)) ccoomm ffrraattuurraa ppoorr
ttrraaççããoo ((iinnffeerriioorr)) –– 220000XX;; ((bb)) rreeggiiããoo ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ((pprreesseennççaa ddee ddiimmpplleess)),, ppoorr ttrraaççããoo –– 11000000XX;; ((cc)) ddeessttaaccaamm--ssee ooss
ddiimmpplleess –– 33..000000XX.. MMEEVV..
Figura 6.11 - Microfractografias de: (a) uma liga de alumínio Al-7475 T-7351 obtida através de um ensaio de crescimento de trinca por 
fadiga; região de crescimento de trinca: início, da/dN = 1 x 10-4 mm/ciclo; destacam-se as estrias de fadiga. MEV 2.000X; (b) 
um aço bifásico submetido ao ensaio de propagação de trinca por fadiga; região II (Paris), MEV 3.500X. 
(a) (b)
Figura 6.12 - Microfractografia de uma superliga de Inconel 600; ensaio de crescimento de trinca por fadiga; região de crescimento de 
trinca: início, da/dN = 1 x 10-7 mm/ciclo; característica: crescimento ao longo de planos bem definidos; MEV 750X. 
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1133 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee uumm aaççoo iinnooxxiiddáávveell mmaarrtteennssííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 442200 eennssaaiiaaddoo eemm ttrraaççããoo;;
ccaarraacctteerrííssttiiccaass aallvvééoollooss ((ddiimmpplleess)) ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ccoomm iinncclluussõõeess;; ((aa)) 11..550000XX ee ((bb)) 1100..000000XX;; MMEEVV..
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1133 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee uumm aaççoo iinnooxxiiddáávveell mmaarrtteennssííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 442200 eennssaaiiaaddoo eemm ttrraaççããoo;;
ccaarraacctteerrííssttiiccaass aallvvééoollooss ((ddiimmpplleess)) ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ccoomm iinncclluussõõeess;; ((aa)) 11..550000XX ee ((bb)) 1100..000000XX;; MMEEVV..
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1133 -- MMiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee uumm aaççoo iinnooxxiiddáávveell mmaarrtteennssííttiiccoo ddoo ttiippoo AAIISSII 442200 eennssaaiiaaddoo eemm ttrraaççããoo;;
ccaarraacctteerrííssttiiccaass aallvvééoollooss ((ddiimmpplleess)) ddee ffrraattuurraa ddúúccttiill ccoomm iinncclluussõõeess;; ((aa)) 11..550000XX ee ((bb)) 1100..000000XX;; MMEEVV..
Figura 6.14 - Microfractografias de corpos-de-prova ensaiados sob impacto; (a) aço do tipo AISI 1016; (b) aço do tipo AISI 4140;
notam-se facetas de clivagem; fratura frágil; (a) 350X; (b) 750X; (c) 2.000X; (d) 3.500X; MEV. 
(a) (b)
(c) (d)
FFiigguurraa 66..1155 -- MMiiccrrooeessttrruuttuurraa ddee uumm aaççoo mmuullttiiffáássiiccoo ((ffeerrrriittaa,, mmaarrtteennssiittaa ee bbaaiinniittaa));; aattaaqquuee LLee PPeerraa;; 22..000000XX;; MMEEVV..
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1166 -- MMiiccrrooeessttrruuttuurraass ddee uumm aaççoo AAIISSII 11004455;; aattaaqquuee:: NNiittaall ((22%%));; 555500XX ((aa)) ee 11220000XX ((bb));; MMEEVV;; ddeessttaaccaamm--ssee
aass llaammeellaass ddee ppeerrlliittaa eemm ((bb))..
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1166 -- MMiiccrrooeessttrruuttuurraass ddee uumm aaççoo AAIISSII 11004455;; aattaaqquuee:: NNiittaall ((22%%));; 555500XX ((aa)) ee 11220000XX ((bb));; MMEEVV;; ddeessttaaccaamm--ssee
aass llaammeellaass ddee ppeerrlliittaa eemm ((bb))..
((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..1166 -- MMiiccrrooeessttrruuttuurraass ddee uumm aaççoo AAIISSII 11004455;; aattaaqquuee:: NNiittaall ((22%%));; 555500XX ((aa)) ee 11220000XX ((bb));; MMEEVV;; ddeessttaaccaamm--ssee
aass llaammeellaass ddee ppeerrlliittaa eemm ((bb))..
Microssonda Eletrônica
Baseada na medida de raios-X característicos emitidos de uma
região microscópica da amostra bombardeada por um feixe de
elétrons.
As linhasde raios-X característicos são específicas do número
atômico da amostra e da energia, podendo identificar o elemento
que está emitindo a radiação.
Esquema do processo de excitação de elétrons para a 
produção de raios-X ou de Auger. 
EDS (Espectrometria por Dispersão de Energia)
EDS - Energy Dispersive Spectrometer
Energia de um fóton relacionada com a frequência da onda eletromagnética e
está relacionada com o número atômico.
Tipos de espectrometria por raios-X:
• Fótons com energias correspondentes a todo o espectro de raios-X atingem o
detector simultaneamente;
• Detector consiste de silício dopado com lítio e é mantido no nitrogênio líquido;
• Janelas de baixa absorção de raios-X,que impedem análise de elementos leves;
Ex.: Janela de berílio.
WDS (espectrometria por dispersão de comprimento de onda)
WDS - Wavelenght Dispersive Spectrometer
A separação de raios-X de vários níveis de energia é obtido utilizando-se a
natureza de onda dos fótons, através do fenômeno de difração.
A Lei de Bragg fornece a relação entre o comprimento de onda de raios-X (λ), e o
ângulo crítico (θ) na qual ocorre interferência construtiva.
n λ = 2d sen ө
• Utilização de vários cristais de difração para cobrir toda a faixa de raios-X;
• Diferentes ordens de difração para um único comprimento de onda;
• Necessidade de padrões.
A energia do fóton de raios-X é separada através do seu comprimento de onda
E = h/
O comprimento de onda é obtido através da difração por um monocristal com
ângulo de posicionamento variável.
Espectro de raios-X obtido com WDS.Espectro de raios-X obtido com EDS.
Microscópio eletrônico de varredura com WDS
Filamento
Wehnelt ou Grade Catódica
Anodo
Lentes Condensadoras
Objetiva
Detector de corrente
Bobina de varredura
Objetiva OM
Objetivas
Detector de 
Elétrons 
Secundários
Microscópio ótico
e Câmera CCD
WDS
Detector
de raios-X
Porta Amostra
O espectrômetro WDS consiste em um sistema mecânico de alta precisão para estabelecer o Ângulo de 
Bragg (direção de difração de raios-X correlacionados com a rede cristalina que “reflete” os raios-X que a 
atravessam), entre a amostra e um cristal analisador.
 
 
(a) (b)
(c)
Figura 6.17 - Microestrutura de um aço inoxidável do tipo AISI 310, analisada por MEV (20 kV), destacando-se a precipitação de partículas de 
segunda-fase em contornos de grão; (a) 250X; (b) 1.200X; (c) análise por EDS; pontos analisados: 1-4; MEV/EDS; 3.000X.
Figura 6.18 - Espectros obtidos por EDS (20 kV); indicando os elementos presentes nos pontos analisados na figura acima (c). Ponto 1 (a).
(a)
Figura 6.18 - Espectros obtidos por EDS indicando os elementos presentes nos pontos analisados na figura acima (c). Ponto 2 (b); ponto 3 (c); 
ponto 4 (d). 
(b)
(c) (d)
 
Microscópio eletrônico de varredura: GEsFraM-DEMET
Análise por EDS no MEV de uma inclusão em aço microligado C-Mn-Nb.
Aço carbono, com a presença de ferrita, perlita e contornos de grãos. Perlita começando a se esferoidizar.
6.3 - Microscopia Eletrônica de Transmissão
Superfície de fratura
Endurecimento
da resina
Carbono
Blindagem
(metal pesado)
Câmara de vácuo Banho - acetona
Réplica de resina
Deposição de
carbono/filme de metal
Dissolução da
resina
Banho de limpeza
(acetona)
Enxaguar - água
Grade - cobre
Limpar - acetona Enxaguar - água
(opcional)
Montagem da réplica
FFiigguurraa 66..1177 -- RReepprreesseennttaaççããoo eessqquueemmááttiiccaa ddaa ttééccnniiccaa ddee oobbtteennççããoo ddee rréépplliiccaass..
Figura 6.19 - Representação esquemática da técnica de obtenção de réplicas.
Para fonte alta
voltagem Fonte de
elétrons
 Anodo
Terra
 Abertura
Lente
condensadora
(uma ou duas)
Detector de radiação
secundária ou refletida
Amostra ou
réplica
Lente
objetiva
 Abertura
Lente
intermediária
 Abertura
Lente de
projeção
Imagem transmitida
Fonte de luz
 Abertura
Lente
condensadora
 Amostra
Lente
objetiva
Lente de
projeção
Imagem final
FFiigguurraa 66..1188 -- RReepprreesseennttaaççããoo eessqquueemmááttiiccaa vveerrttiiccaall ddee uumm MMEETT ((aa)) ee ddee uumm MMOO ccoomm lluuzz ttrraannssmmiittiiddaa ((bb))..
Figura 6.20 - Representação esquemática de um MET (a), e de um MO com luz transmitida (b).
FFiigguurraa 66..1199 -- EEssttrriiaass ddee ffaaddiiggaa ppaarraa uummaa lliiggaa ddee aalluummíínniioo ee uumm aaççoo eessttrruuttuurraall;; MMEETT;; ttééccnniiccaa ddee rréépplliiccaass;; 44000000 XX..
Figura 6.21 - Estrias de fadiga em uma liga de alumínio e um aço estrutural; MET; técnica de réplicas; 4000X.
 ((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..2200 -- ((aa)) CCoommppaarraaççããoo eennttrree MMiiccrroossccooppiiaa ÓÓttiiccaa ((ccaammppoo eessccuurroo)) ee ((bb)) MMEEVV;; mmeessmmaa áárreeaa;; lliiggaa FFee--CCrr--AAll;; 5500 XX..
Figura 6.22 -
 ((aa)) ((bb)) ((cc))
FFiigguurraa 66..2211 -- ((aa)) CCoommppaarraaççããoo eennttrree MMiiccrroossccooppiiaa ÓÓttiiccaa ((ccaammppoo ccllaarroo));; ((bb)) MMiiccrroossccooppiiaa ÓÓttiiccaa ((ccaammppoo eessccuurroo));; ((cc)) MMEEVV;;
mmeessmmaa áárreeaa;; lliiggaa FFee--CCrr--AAll;; 5500 XX..Figura 6.23
 ((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..2222 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa:: ((aa)) ccaammppoo ccllaarroo;; ((bb)) ccaammppoo eessccuurroo ddee uummaa lliiggaa FFee--CCrr--AAll;; iimmppaaccttoo aa –– 119955o
o
CC;; 6600 XX..
Figura 6.24
 ((aa)) ((bb))
FFiigguurraa 66..2233 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree mmiiccrroossccooppiiaa eelleettrrôônniiccaa ddee vvaarrrreedduurraa:: ((aa)) eellééttrroonnss sseeccuunnddáárriiooss;; ((bb)) eellééttrroonnss rreettrrooeessppaallhhaaddooss ddee
uummaa lliiggaa FFee--CCrr--AAll;; iimmppaaccttoo aa –– 119955o
o
CC;; 6600 XX..Figura 6.25
 
 ((aa)) ((bb)) 
 
 
 ((cc)) ((dd)) 
 
FFiigguurraa 66..2255 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa:: ((aa)) ccaammppoo ccllaarroo ee ((bb)) ccaammppoo eessccuurroo;; ee mmiiccrroossccooppiiaa eelleettrrôônniiccaa ddee vvaarrrreedduurraa:: ((cc)) eellééttrroonnss 
sseeccuunnddáárriiooss ee ((dd)) eellééttrroonnss rreettrrooeessppaallhhaaddooss nnaa rreeggiiããoo ddaa iinntteerrffaaccee eennttrree aa pprréé--ttrriinnccaa ppoorr ffaaddiiggaa ee aa ffrraattuurraa ddee uummaa ssuuppeerrlliiggaa aa bbaassee ddee nnííqquueell 
((XX--775500));; 9955
oo
CC;; nnoottaa--ssee aa oo aassppeeccttoo iinntteerrggrraannuullaarr ddaa ffrraattuurraa;; 6600 XX..((aa)) ((bb)) 
 
 
 ((cc)) ((dd)) 
 
FFiigguurraa 66..2255 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa:: ((aa)) ccaammppoo ccllaarroo ee ((bb)) ccaammppoo eessccuurroo;; ee mmiiccrroossccooppiiaa eelleettrrôônniiccaa ddee vvaarrrreedduurraa:: ((cc)) eellééttrroonnss 
sseeccuunnddáárriiooss ee ((dd)) eellééttrroonnss rreettrrooeessppaallhhaaddooss nnaa rreeggiiããoo ddaa iinntteerrffaaccee eennttrree aa pprréé--ttrriinnccaa ppoorr ffaaddiiggaa ee aa ffrraattuurraa ddee uummaa ssuuppeerrlliiggaa aa bbaassee ddee nnííqquueell 
((XX--775500));; 9955
oo
CC;; nnoottaa--ssee aa oo aassppeeccttoo iinntteerrggrraannuullaarr ddaa ffrraattuurraa;; 6600 XX.. 
6
 
FFiigguurraa 66..2266 -- CCoommppaarraaççããoo eennttrree mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa:: ((aa)) ccaammppoo ccllaarroo ee ((bb)) ccaammppoo eessccuurroo;; ee mmiiccrroossccooppiiaa eelleettrrôônniiccaa ddee vvaarrrreedduurraa –– 
eellééttrroonnss sseeccuunnddáárriiooss ((cc));; ffrraattuurraa ddúúccttiill eemm uummaa ssuuppeerrlliiggaa aa bbaassee ddee nnííqquueell ((XX--775500));; 224400XX.. 
7
Figura 6.28 - Comparação do emprego de microscopia para análises de microfractografia de uma liga a base de níquel, endurecida por 
precipitação, mostrando a fratura intergranular, através de: (a) microscopia ótica (campo claro); (b) microscopia ótica (campo escuro); (c) MEV 
(elétrons secundários); (d) MEV (elétrons retroespalhados). 
(a) (b)
(c) (d)
 
FFiigguurraa 66..2277 -- EExxeemmppllooss ddee eemmpprreeggoo ddee mmiiccrroossccooppiiaa ppaarraa aannáálliisseess ddee mmiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaass ddee uumm aaççoo bbaaiixxoo--ccaarrbboonnoo ffrraattuurraaddoo ppoorr 
cclliivvaaggeemm ccoomm 33 aannáálliisseess ddiirreettaass ddaa ssuuppeerrffíícciiee ((aa,,bb,,cc)) ee 33 ccoomm aauuxxíílliioo ddee rréépplliiccaass ((dd,,ee,,ff));; ((aa)) mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa -- mmaatteerriiaall rreevveessttiiddoo 
ccoomm nnííqquueell nnoo ttooppoo;; ((bb)) mmiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaa óóttiiccaa;; ((cc)) mmiiccrrooffrraaccttooggrraaffiiaa ccoomm MMEEVV;; ((dd)) mmiiccrroossccooppiiaa óóttiiccaa ddaa rréépplliiccaa;; ((ee)) MMEEVV ddaa 
rréépplliiccaa;; ((ff)) MMEETT ddaa rréépplliiccaa.. 9