Tentativa 1 de 3 2. Cite a principal técnica utilizada na criação dos materiais semicondutores, a qual pretende alcançar alto grau de pureza, redu...
Tentativa 1 de 3 2. Cite a principal técnica utilizada na criação dos materiais semicondutores, a qual pretende alcançar alto grau de pureza, reduzindo, assim, os níveis de impurezas presentes tanto no silício quanto como no germânio. A. Sintetização. B. Exodilapidação. C. Esfoliação. D. Purificação. E. Destilação. 2 de 5 perguntas
A principal técnica utilizada na criação dos materiais semicondutores é a purificação, que visa alcançar um alto grau de pureza, reduzindo os níveis de impurezas presentes tanto no silício quanto no germânio. Portanto, a alternativa correta é a letra D.
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