Para dopar materiais semicondutores do tipo N, precisamos adicionar impurezas que tenham mais elétrons de valência do que o silício, que possui 4 elétrons de valência. Os elementos que têm 5 elétrons de valência são os mais adequados para essa função. Vamos analisar as opções: A) Gálio - Tem 3 elétrons de valência, não é adequado para tipo N. B) Ferro - Tem 8 elétrons de valência, não é adequado para tipo N. C) Boro - Tem 3 elétrons de valência, não é adequado para tipo N. D) Oxigênio - Tem 6 elétrons de valência, não é adequado para tipo N. E) Bismuto - Tem 5 elétrons de valência, é adequado para dopagem do tipo N. Portanto, a resposta correta é: E) Bismuto.