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No preparo de dispositivos eletrônicos, um filme fino de silício sólido (Si) é uniformemente depositado em uma superfície tipo wafer pela decomposi...

No preparo de dispositivos eletrônicos, um filme fino de silício sólido (Si) é uniformemente depositado em uma superfície tipo wafer pela decomposição do silano (SiH4) na presença de H2 gasoso. Se a composição do gás é mantida a molar de SiH4 e molar de H2, determine:
a) A fração mássica destas espécies
b) A massa molar média da mistura gasosa;
c) A concentração molar, cA, de SiH4 se o gás de alimentação é mantido a e pressão de .≔T 900 K ≔P 60 torr
a) Fração mássica de SiH4 e H2
b) Massa molar média da mistura gasosa
c) Concentração molar de SiH4
Um filme fino de silício sólido (Si) é uniformemente depositado em uma superfície tipo wafer.
O filme é depositado pela decomposição do silano (SiH4) na presença de H2 gasoso.
A composição do gás é mantida a molar de SiH4 e molar de H2.
Deve-se determinar a fração mássica destas espécies.
Deve-se determinar a massa molar média da mistura gasosa.
Deve-se determinar a concentração molar, cA, de SiH4 se o gás de alimentação é mantido a e pressão de .≔T 900 K ≔P 60 torr.

Essa pergunta também está no material:

Lista 1 - Fundamentos de Transferência de Massa
3 pág.

Transferencia de Massa Universidade Federal de Minas GeraisUniversidade Federal de Minas Gerais

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a) Para determinar a fração mássica de SiH4 e H2, é necessário conhecer as massas molares de cada espécie. A massa molar do SiH4 é de 32 g/mol e a do H2 é de 2 g/mol. Como a composição do gás é mantida a molar de SiH4 e molar de H2, a fração mássica de cada espécie é igual à sua fração molar. Portanto, a fração mássica de SiH4 é de 32/(32+2) = 0,941 e a fração mássica de H2 é de 2/(32+2) = 0,059. b) Para determinar a massa molar média da mistura gasosa, é necessário conhecer as massas molares de cada espécie e suas respectivas frações molares. A massa molar média é dada pela soma do produto da massa molar de cada espécie por sua fração molar. Assim, a massa molar média da mistura gasosa é dada por: (0,941 x 32) + (0,059 x 2) = 30,1 g/mol. c) Para determinar a concentração molar de SiH4, é necessário utilizar a equação de estado dos gases ideais: PV = nRT, onde P é a pressão, V é o volume, n é a quantidade de matéria, R é a constante dos gases ideais e T é a temperatura absoluta. Rearranjando a equação, temos: n = PV/RT. Substituindo os valores dados, temos: n = (60/760) x (1/1000) x V / (0,082 x 900). Como a composição do gás é mantida a molar de SiH4 e molar de H2, a concentração molar de SiH4 é igual à concentração molar total multiplicada pela fração molar de SiH4. Assim, a concentração molar de SiH4 é dada por: cA = n x 0,941 / V.

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