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GRUPO DE ESTUDOS SOBRE FRATURA DE MATERIAIS DEMET/EM/UFOP MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE TRANSMISSÃO TÉCNICAS DE ANÁLISE ESTRUTURAL MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE TRANSMISSÃO • Introdução • O advento da microscopia eletrônica • Interação elétrons-matéria • Descrição geral do MET • O canhão de elétrons • Sistema de lentes • Preparação de amostras • Informações fornecidas • Formação da imagem • Difração no MET • Exemplos de aplicação TÉCNICAS DE ANÁLISE MICROESTRUTURAL MICROSCOPIA COM LUZ VISÍVEL (“ÓTICA”) MICROSCOPIA ELETRÔNICA DIFRAÇÃO DE RAIOS-X MICROSCOPIA MICROSCÓPIO COM LUZ VISÍVEL MICROSCÓPIO ELETRÔNICO DE VARREDURA MICROSCOPIO ELETRÔNICO DE TRANSMISSÃO Canhão Lentes condensa- doras Bobinas de varredura Detectores Amostra Lentes Tela de projeção Espectrômetro SEM = microscópio eletrônico de varredura; TEM = microscópio eletrônico de transmissão. O SEM torna-se uma microssonda EPMA quando um detector de raios-X é adicionado, ou um STEM quando o detector é movido para baixo da amostra. Um detector de raios-X e/ou um espectrômetro de perda de energia de elétrons podem ser adicionados ao TEM para se ter um microscópio eletrônico analítico AEM. A adição de bobinas de varredura a esta configuração resulta em um TEM/STEM. Comparação entre as diferentes técnicas de análises em termos de ampliação e de poder de resolução. TIPOS DE MICROSCÓPIOS A escala de resolução TIPOS DE MICROSCÓPIOS O ADVENTO DA MICROSCOPIA ELETRÔNICA No final do século XIX, coube a Ernst Abbe a contestação de que “aumentos cada vez maiores só dependeriam da perfeição de fabricação de lentes”. Seus estudos mostraram que havia uma limitação básica para a resolução de um sistema ótico, relacionada ao diâmetro da lente e ao comprimento de onda da luz. A figura de Abbe domina todo o desenvolvimento das modernas lentes, sejam para microscopia ou para fotografia. A carreira de Abbe também oferece outra faceta de interesse histórico: é uma das primeiras vezes que um industrial, Karl Zeiss, contratava um cientista com o propósito deliberado de melhorar seus produtos através de pesquisa básica e aplicada. Ernst Abbe (1840-1905) Exemplo: Em um microscópio ótico, a menor distância que pode ser resolvida, , é dada aproximadamente pela seguinte expressão: onde é o comprimento de onda da radiação, é o índic de refração do meio, e é o semi-ângulo de coleta de iluminação da lente. O produto .sen é a abertura numérica NA da lente, que será considerada unitária, para simplificação dos cálculos. Considerando luz verde no meio do espectro visível, ≈ 550nm. Daí, a resolução de um bom microscópio ótico é igual a cerca de 300nm. Embora 300nm seja uma dimensão bem pequena, ela corresponde a cerca de 1.000 diâmetros atômicos. Portanto, muitas das características que controlam as propriedades dos materiais estão numa escala bem abaixo da resolução do microscópio ótico. Assim, no começo do século XX a microscopia ótica havia atingido o limite de resolução previsto pela teoria de Abbe. Uma vez que a qualidade das lentes não oferecia mais escopo para progresso, o único caminho para conseguir maior resolução seria através da utilização de radiações com menor comprimento de onda. Em 1924 de Broglie formulou sua postulação da dualidade onda-partícula para elétrons, que lhes atribuía um comprimento de onda equivalente a: onde é o comprimento de onda, V a tensão de aceleração dos elétrons (eV), h a constante de Planck e m, v a massa e a velocidade dos elétrons. Portanto, a aceleração de elétrons a algumas dezenas de milhares de volts resulta em comprimentos de onda da ordem de Ångstrons, da ordem das dimensões atômicas. Exemplo: Ao trabalhar com elétrons acelerados com uma energia de 100keV, ≈ 0,004nm, dimensão muito menor do que um diâmetro atômico. L. de Broglie (1892-1986) nm Vvm h 5,1 (Na aproximação ao lado, foi ignorada a inconsistência nas unidades) A carga dos elétrons determina que sejam influenciados por campos magnéticos e eletrostáticos, o que possibilita a construção de lentes. O ano de 1926 pode ser considerado como o início da ótica eletrônica: Busch formulou a teoria de que campos magnéticos ou elétricos com simetria axial agem como lentes sobre partículas carregadas, como elétrons, e desenvolveu uma lente magnética. A possibilidade de construção de um microscópio eletrônico foi imediatamente percebida por diversos pesquisadores, principalmente de grupos em Berlim/Alemanha, empenhados na construção de osciloscópios de raios catódicos. Dentre estes, Knoll e Ruska tomaram a dianteira, e rapidamente desenvolveram o instrumento a ponto de superarem, pela primeira vez em 1931, a resolução do microscópio com luz visível. Durante a década de 1930 o aparelho conheceu sucessivos aperfeiçoamentos, e à véspera da Segunda Guerra Mundial iniciava sua comercialização pela firma Siemens. Primeiro MET: Knoll e Ruska. Ernst Ruska (1906-1988) Esquema do primeiro MET (ampliação de 16X), copiado de anotações de Ruska, em 1931. Depois da Guerra, a microscopia eletrônica teve rápido desenvolvimento, principalmente na área biológica, cujas amostras se prestam facilmente ao exame por transmissão. Na área de materiais, o progresso foi mais lento, restrito inicialmente ao exame de perfis e de superfícies por intermédio de réplicas. As primeiras micrografias eletrônicas de aços foram provavelmente obtidas por Mehl em 1940. A microscopia eletrônica de transmissão de materiais, no entanto, só desenvolveu- se rapidamente após a introdução das folhas finas por Heidenreich e pelos trabalhos seminais de Hirsch e colaboradores em Cambridge, em torno de 1960, na elucidação do mecanismo de contraste em amostras cristalinas. A resolução rapidamente superou em quase três ordens de grandeza a do microscópio ótico e o MET veio a tornar-se o mais importante instrumento no estudo das estruturas e descontinuidades cristalinas nesta escala. Atualmente, os constantes aperfeiçoamentos na engenharia dos microscópios, aliada aos recursos computacionais disponíveis, tornam a resolução atômica, se não rotineira, pelo menos comum em muitos laboratórios em todo o mundo. O desenvolvimento da microscopia eletrônica, Deutsches Museum, Munique, Alemanha. HVEM JEM de 1,25MeV. Observe o tamanho do equipamento: geralmente o gerador de alta voltagem está em outra sala, acima da coluna. HRTEM Zeiss. Observe o tamanho da carcaça, para garantir elevada estabilidade mecânica exigida para o elevado desempenho (resolução). STEM Hitachi de 200keV. Observe a ausência da câmara de observação. Este aparelho é projetado para análise de falha de dispositivos semicondutores. TEM/STEM JEOL de 200keV. Observe também a ausência da câmara de observação. SuperSTEM Nion ultra-alto vácuo de 200keV. FEI Titan. De um modo geral, uma incitação incidente desencadeará na matéria uma resposta, dita um sinal, que pode ser adquirido por um sensor adequado. Um número considerável de tais efeitos ocorre quando um feixe de elétrons, acelerado por um campo de alta tensão, incide sobre uma amostra. Os efeitos primários são: espalhamento elástico; espalhamento inelástico. O espalhamento elástico consiste na mudança de direção do feixe, sem perda apreciável de energia. Ele é causado principalmente pela interação com núcleos atômicos, e resulta em desvios angulares consideráveis da direção de incidência. Caso os átomos do material estejam dispostos periodicamente (sólido cristalino), o espalhamento ocorre de forma regular e repetitiva, e os elétrons emergem com ângulos definidos em relação ao feixe incidente. Neste caso, trata-se do espalhamento elástico coerente, ou difração de elétrons, uma manifestação da natureza ondulatória dos elétrons, e pode ser tratado como um fenômeno clássico de difração, por exemplo, de raios-X. Para o caso de materiais não cristalinos (amorfos), o espalhamento ainda é elástico, mas os elétrons resultantes não têmuma direção definida em relação aos incidentes, constituindo o espalhamento elástico incoerente. Em microscopia eletrônica de transmissão, praticamente só se consideram os elétrons transmitidos e espalhados elasticamente, pois o feixe incidente tem alta energia e a amostra é muito fina. INTERAÇÃO ELÉTRONS-MATÉRIA O espalhamento inelástico é um fenômeno complexo, que engloba todos os casos em que os elétrons incidentes perdem energia ao interagir com a matéria. Esta interação ocorre principalmente com os elétrons orbitais da amostra. Quase toda a energia cinética dos elétrons espalhados inelasticamente transforma-se em calor. Uma parte pequena, mas muito importante, da energia escapa sob a forma de raios-X, catodoluminescência e elétrons emitidos, de grande importância em microscopia. Existem duas possibilidades de espalhamento inelástico de elétrons pela matéria que resultam na produção de raios-X. A radiação contínua origina-se da desaceleração de elétrons incidentes no campo elétrico dos núcleos atômicos do material. A radiação característica é produzida pela interação dos elétrons incidentes com elétrons orbitais internos dos átomos do material. Para isto, é necessário que o átomo seja ionizado pela ejeção de um elétron das órbitas K, L ou M. O átomo retorna para seu estado básico pela transição de um elétron externo para o vazio orbital interno. Nesta relaxação, o átomo perde energia pela emissão de um fóton de raios-X. O comprimento de onda dos raios-X varia com o número atômico do material (relação de Moseley), daí esta radiação ser aproveitada para microanálise química em microscopia. O volume excitado para a radiação X é dado pelo espalhamento do feixe primário de elétrons com o núcleo do átomo. A zona excitada é maior que o diâmetro do feixe, devido a mudanças no momento dos elétrons. O volume dos raios-X produzidos é determinado essencialmente pela energia do feixe primário, entretanto o formato deste volume depende particularmente do número atômico. Catodolominescência é a emissão de luz no intervalo UV-visível-IV quando átomos excitados por um feixe de elétrons acelerados relaxam para sua configuração de equilíbrio. Um elétron das camadas externas do átomo pode ser ejetado, ou excitado para um nível maior de energia. Ao retornar ao nível anterior a energia absorvida é liberada na forma de fótons. Da superfície da amostra sobre a qual incide o feixe emanam, preponderantemente, dois tipos de elétrons: retroespalhados (comumente denominados, ainda que inapropriadamente, de refletidos) e secundários. Estes últimos, cuja energia se situa abaixo de 50 eV, são formados pela excitação de elétrons fracamente ligados aos átomos. Sua emissão depende sensivelmente da topografia da superfície da amostra, e apresenta imagem com boa profundidade para aumentos entre 10 e 100.000 vezes. Os elétrons retroespalhados apresentam imagem com menor resolução que os elétrons secundários. Eles são emitidos de uma profundidade entre 30 e 40 nm, com energia próxima à do feixe incidente. Em microscopia eletrônica de varredura, os elétrons retroespalhados e os elétrons secundários constituem os mais importantes sinais. Ocasionalmente, quando e processa a relaxação de um átomo ionizado por interação com elétrons ou raios-X, nem toda a energia é liberada na forma de um fóton. Pode ocorrer um processo competitivo, segundo o qual a energia é diretamente transmitida para um outro elétron do mesmo átomo, que é ejetado na forma de um elétron Auger, cuja energia é característica do elemento do qual é emitido. A profundidade da qual elétrons Auger são capazes de atingir a superfície é da ordem de 0,1 nm. O seu estudo, portanto, é um instrumento adequado ao exame da superfície dos materiais, através da espectroscopia Auger. Finalmente, elétrons absorvidos correspondem à fração dos elétrons primários que perdem toda a sua energia na amostra, constituindo a chamada corrente da amostra. Representação esquemática da incidência de elétrons na superfície de uma amostra, suas conseqüências e o princípio da microscopia eletrônica Espalhamento de elétrons por um átomo isolado. Os elétrons são espalhados através de um ângulo θ, gerando um cone total de espalhamento Ω. Um átomo isolado pode espalhar um elétron de alta energia por dois mecanismos. Interação coulombiana dentro da núvem eletrônica resulta de espalhamento de baixo ângulo. Atração coulombiana pelo núcleo causa o espalhamento de alto ângulo. Uma onda plana coerente de elétrons gera ondas secundárias em uma linha com diversos centros de espalhamento, como átomos em uma amostra. As ondas secundárias interferem entre si, resultando em uma forte onda direta (ordem zero), e diversas ondas (ordens mais elevadas) coerentes espalhadas (difratadas) para ângulos específicos. Simulação de Monte-Carlo para a trajetória do espalhamento de 103 elétrons (100keV), após atravessarem uma fina amostra de (a) cobre e de (b) ouro. Observe o aumento do ângulo de espalhamento com o número atômico do metal, e o pequeno número de elétrons que espalham para um ângulo maior do que 90o. Representação esquemática da interação de um feixe de elétrons com a amostra mostrando a profundidade de interação. Geração de elétrons secundários e retroespalhados, raios-X e elétrons Auger. Espectro de raios-X e equação de Moseley. Definição dos principais ângulos (semi- ângulos) no MET. Qualquer ângulo de incidência/convergência é ; qualquer ângulo de coleta é ; um ângulo geral de espalhamento é . Todas as medidas são feitas a partir do eixo ótico, uma linha imaginária traçada ao longo do comprimento da coluna do aparelho. DESCRIÇÃO GERAL DO MICROSCÓPIO ELETRÔNICO DE TRANSMISSÃO - MET O MET consiste basicamente de uma fonte (ou canhão) de elétrons, um acelerador e um conjunto de lentes, todos montados em uma coluna evacuada a cerca de 10-6 mmHg. O arranjo ótico é similar ao do microscópio ótico, onde as lentes magnéticas possuem ação semelhante às lentes óticas de vidro. Elas são energizadas em corrente contínua e seu comprimento focal pode ser variado alterando-se o valor da corrente. As duas lentes condensadoras colimam o feixe de elétrons da fonte até a amostra, que é colocada imediatamente antes da lente objetiva. Aberturas são inseridas para limitar a divergência do feixe de elétrons, diminuindo as aberrações das lentes. A lente objetiva produz uma imagem aumentada da amostra, imagem esta da qual uma parte é sucessivamente ampliada pela lente intermediária e pela lente projetora. Esta imagem final pode ser apreciada em uma tela fluorescente ou registrada em um filme fotográfico. O comprimento de onda do feixe acelerado de elétrons é função da tensão elétrica aplicada. Opera-se usualmente em três faixas de tensão: 100 a 200 kV (convencional), 300 a 600 kV (intermediária) e até 2.000 kV (alta tensão). Comparação entre um MET e um projetor de slides. Comparação entre um MET e um MO. Representação esquemática vertical de um MET. MET JEOL de 300kV, com ampliação de até 1.500.000X. MET Philips modelo EM 208S. VANTAGENS IMEDIATAS DE UM MET Imagem formada a nível atômico (resolução) Sinais que podem fornecer a cristalografia e a composição química da amostra (difração de elétrons e produção de raios-X) Produção de imagens que sempre estão em foco (profundidade de campo e de foco) LIMITAÇÕES DE UM MET Amostragem Interpretação das imagens transmitidas Danos do feixe de elétrons e segurança Um contorno de macla entre dois planos (111) paralelos. Discordâncias em uma amostra de GaAs. Análise química por raios-X de uma superliga a base de níquel. Rede de difração de uma liga de alumínio (Al-Li-Cu) com diversas fases precipitadas. Danos causados por um feixe de elétrons de 125keV (como bolhas) em uma amostra de quartzo. Com acréscimo do tempo, o tamanho dos danos aumenta. Fotografia de dis rinocerontes, tomada de tal maneira que elesparecem ter duas cabeças. Em um microscópio de luz refletida este “problema” é facilmente percebido, mas no MET pode gerar confusão na interpretação da imagem. O CANHÃO DE ELÉTRONS O canhão de elétrons é o iluminador dos microscópios eletrônicos. Duas fontes de elétrons são utilizadas: termoiônicas e de emissão de campo. Em ambos os casos, o emissor age como um cátodo, e os elétrons são focalizados em um ponto, denominado cruzamento (crossover), por um ânodo com potencial negativo. Este ponto pode ser considerado como a origem virtual da fonte. O efeito termoiônico consiste no aquecimento de um filamento a alta temperatura. Sua energia aumenta o bastante para que a barreira de potencial da superfície seja superada, e o filamento passa a emitir elétrons térmicos. O filamento de tungstênio é o cátodo mais tradicional, e ainda o mais usado, mais robusto e de mais fácil operacão. Sua desvantagem é fornecer a menor intensidade e brilho. Alternativamente, o cátodo pode ser um cristal afilado de LaB6; sendo cerâmico não pode ser aquecido resistivamente, o que é feito envolvendo-o em um microforno. Estas fontes são mais dispendiosas e delicadas, mas têm a vantagem de fornecerem brilho uma ordem de grandeza maior. É possível ter emissão de elétrons na temperatura ambiente, sujeitando um eletrodo de tungstênio a um elevado campo elétrico. Este pode ser consideravelmente aumentado, conformando o eletrodo de forma pontiaguda (efeito de ponta). O processo de emissão de campo é menos suave do que o termoiônico, e as flutuações e instabilidades são maiores. O benefício está na obtenção de uma fonte muito menor e mais intensa, resultando muito maior brilho e coerência. Canhão de elétrons por efeito termoiônico. As três partes principais do canhão termoiônico: o catodo, o cilindro Wehnelt e o anodo, mostrados separadamente. O filamento de tungstênio é levado por efeito Joule a cerca de 2.700oC, e emite elétrons por efeito térmico. O filamento é envolto por um cilindro – Wehnelt – mantido algumas centenas de volts negativo.em relação ao filamento. Entre o ânodo e o cátodo aplica-se uma tensão da ordem de 200 kV. Os elétrons emitidos pelo filamento são então repelidos pelo Wehnelt, que os força a passar pelo crossover com um certo diâmetro d0. A posição do crossover e e a abertura central do anodo definem uma divergência inicial do feixe 0. O brilho resultante é função destas características. A emissão de elétrons aumenta com a corrente de aquecimento até um limite, denominado saturação, acima do qual a vida do filamento diminui sem correspondente aumento de emissão. (a) Um cristal de LaB6, e a distribuição de elétrons quando a fonte é (b) sub- saturada ou (c) saturada. (a) Percurso de elétrons em uma fonte de emissão de campo, mostrando como um fino cruzamento é formado por dois anodos atuando como lentes eletrostáticas. Às vezes, uma lente extra é adicionada abaixo do segundo anodo. (b) Uma finíssima ponta de uma fonte de emissão de campo, como uma agulha. SISTEMA DE LENTES Elétrons podem ser desviados de sua trajetória por campos elétricos ou magnéticos. Pela criação de campos elétricos ou magnéticos adequados, pode- se impor a um feixe divergente de elétrons uma trajetória similar à ação focalizadora que uma lente ótica de vidro possui sobre feixes de luz. Diagrama esquemático de uma lente magnética. Uma peça polar de ferro doce é furada no centro, por onde vai passar o feixe de elétrons, e circundada por bobinas de cobre, através das quais a corrente elétrica magnetiza a peça polar. O campo magnético é mais fraco no eixo ótico, aumentando sua resistência no sentido da peça polar; quanto mais elétrons viajarem fora do eixo, mais fortemente eles serão defletidos. Uma lente real. A forma cilíndrica serve para construção das bobinas de cobre. As duas peças polares cônicas situam-se dentro do furo central da lente. Os três pinos de conexão elétrica energizam as bobinas, para magnetização das peças polares. Água de refrigeração circula pelas duas aberturas na parte superior da lente, para dissipar o calor gerado nas bobinas. (a) Diagrama de raios, mostrando como um diafragma (e respectiva abertura) restringe o espalhamento angular dos elétrons que entram em uma lente. Somente elétrons provenientes da amostra com um ângulo menor do que participarão da formação da imagem, o restante será impedido pelo diafragma. (b) Exemplos de diafragmas, com tamanho de cerca de 3mm. As lentes do MET se agrupam em três classes, todas de construção eletromagnética: Lentes condensadoras; Lentes objetivas; Lentes intermediárias e projetoras. Nas lentes magnéticas, o poder focal é determinado pelo valor do campo magnético. Este campo magnético aumenta de maneira contínua com a corrente de excitação. Variando-se, portanto, a corrente de excitação da lente condensadora, modifica-se a iluminação do objeto; variando-se a corrente de excitação da lente objetiva, focaliza- se o objeto; variando-se a corrente de excitação das lentes de projeção, modifica-se o aumento do microscópio. Da mesma maneira que as lentes óticas de vidro, as lentes magnéticas estão sujeitas a aberrações que limitam a resolução da imagem. Daí, cuidados operacionais devem ser tomados para as devidas correções. Da mesma maneira que na lente ótica delgada convexa, a imagem formada pela lente magnética é invertida 180º em relação ao objeto. Entretanto, uma característica única das lentes magnéticas é que, em adição à inversão, a imagem é também girada de certa quantidade, proporcional ao poder da lente. Isto implica que passando-se do modo imagem transmissão para difração, onde parte do sistema de lentes é desexcitado, deve-se considerar este efeito de rotação para correta interpretação dos resultados obtidos. Inversão e rotação do feixe ao passar por lentes magnéticas. As lentes condensadoras são geralmente duas lentes, destinadas a desmagnificar o feixe de elétrons, e controlar o diâmetro e a convergência sobre a amostra. Os requisitos em relação ao feixe variam de acordo com a técnica utilizada. Assim, para a obtenção de imagens procura-se iluminar a parte relevante da amostra por um feixe (aproximadamente) paralelo. Em outros casos, e mais especialmente no MEV, temos interesse em obter um feixe convergente com o menor diâmetro possível. Simulação do sistema de condensação. Simulação do sistema de condensação. A lente objetiva, como em todos os microscópios, é a principal responsável pela qualidade da imagem. Forma a primeira imagem aumentada em geral na faixa de 50-100X. A objetiva forma tanto uma imagem como uma figura de difração no seu plano focal posterior. O diafragma da objetiva (diafragma de contraste) é colocado no plano focal da imagem, com a função de selecionar os elétrons que contribuirão com a formação da imagem, melhorando o contraste. As lentes intermediárias e projetoras adquirem a imagem ou figura de difração, e por aumentos sucessivos formam a imagem final projetada em uma tela fluorescente. Cada uma destas lentes amplia a imagem cerca de 20X, resultando em um possível aumento da ordem de 1.000.000X para o MET. A lente intermediária amplia a imagem inicial que é formada pela lente objetiva. Ela pode estar focalizada na imagem inicial formada pela lente objetiva ou na figura de difração formada no plano focal posterior da lente objetiva. Exemplos de ampliação. Exemplos de ampliação. Profundidade de campo: faixa de distância ao longo do eixo ótico na qual a amostra pode se mover sem que a imagem perca nitidez. Depende da resolução do microscópio. Profundidade de foco: distância sobre a qual a imagem pode se mover em relação à amostra e ainda permanecer em foco. Depende da ampliação. Ambas profundidades dependem fortemente da abertura da lente e da distância de trabalho. Exemplos de profundidade de campo e profundidade de foco. Imagem no MET de discordâncias em uma amostra deGaAs. As discordâncias na banda no meio da imagem estão situadas em planos perpendiculares entre si e se localizam através da fina amostra, desde a parte superior até a parte inferior, mas permanecem em foco ao longo de toda a extensão da espessura da amostra. No MET uma elevada profundidade de campo é crucial para a observação de amostras. Seja, por exemplo, um arranjo de discordâncias em um material, como mostra a figura abaixo. As discordâncias parecem se iniciar e terminar no plano de observação, mas na realidade elas estão atavessando a amostra, e permanecem sempre em foco. Além disto, pode-se registrar a imagem final formada em diferentes posições abaixo das últimas lentes do equipamento, e a imagem continuará em foco (em diferentes ampliações). Raio 1: origina-se no ponto mais alto da coluna onde o objeto está em foco e termina no ponto mais distante onde a imagem está em foco. Raio 2: representa os outros extremos, mas viaja com a mesma inclinação do eixo ótico. dob e dim: menor distância que se pode resolver no objeto e na imagem. Dob e Dim: profundidade de campo e de foco. MA: ampliação angular. MT: ampliação transversal, ou aumento. Exemplos: Para ob = 10mrad e dob = 0,2nm tem-se: Dob = 20nm. Assim, uma amostra de 20nm de espessura estará totalmente em foco. Se você necessita de apenas 2nm de detalhes na sua imagem, então pode-se utilizar uma amostra de 200nm de espessura, e a amostra ainda estará toda em foco. Se você quer ver detalhes num nível de 0,2nm deve-se usar uma ampliação de cerca de 500.000X. Nestas condições, a profundidade de foco será de 5km! Se em outra situação for necessária a observacão de 2nm, usa-se uma ampliação de 50.000X, e a profundidade de foco será de 5m. Em ambos os casos, tem-se uma enorme distância para colocação do filme fotográfico ou da câmara fotográfica, uma vez que a imagem ainda estará em foco muitos metros da tela de observação do aparelho. Técnica de observação da imagem e fotografia. PREPARAÇÃO DE AMOSTRAS A probabilidade de um elétron incidente em uma amostra sofrer colisões com os seus átomos é proporcional ao trajeto percorrido. Assim, como no MET estamos interessados em observar amostras por transparência (transmissão), estas deverão ser finas o suficiente para que a probabilidade de interação se mantenha bastante pequena. A espessura das amostras utilizadas no MET varia de 500 a 5.000 Å, dependendo do material e da tensão de aceleração adotada. Amostras de espessura pequena para análise no MET podem ser obtidas de duas maneiras: Através de réplicas; Através de folhas finas. A topografia das amostras pode ser convenientemente estudada por meio de réplicas da superfície, para exame no MET. Esta técnica, com a qual se iniciou o exame de metais e superfícies fraturadas com microscopia eletrônica, perdeu importância com o advento do MEV, sendo inclusive uma técnica que requer cuidados e habilidade. No entanto, permanecem nichos onde sua utilidade é indiscutível: permite o exame de amostras maiores e afastadas do microscópio, que podem ser replicadas e examinadas seletivamente. Existem muitas técnicas de preparação de réplicas. Em princípio, baseiam-se na deposição de uma fina camada sobre a superfície da amostra, que em seguida é retirada ou por levantamento ou por dissolução do substrato. Usam-se polímeros (dissolvidos em solventes orgânicos), deposição de carbono por evaporação em vácuo, ou ainda óxidos, como por exemplo por anodização do alumínio. O contraste pode ser aumentado por sombreamento, que consiste em evaporar um metal pesado obliquamente sobre a réplica. Este processo é muito aplicado na análise fratográfica. Representação esquemática da técnica de obtenção de réplicas . Superfície de fratura Endurecimento da resina Carbono Blindagem (metal pesado) Câmara de vácuo Banho - acetona Réplica de resina Deposição de carbono/filme de metal Dissolução da resina Banho de limpeza (acetona) Enxaguar - água Grade - cobre Limpar - acetona Enxaguar - água (opcional) Montagem da réplica Representação esquemática da preparação de réplicas. a) réplicas de plástico; b) réplicas de carbono; c) réplicas de óxido. Representação esquemática da preparação de réplicas em um estágio. Representação esquemática da preparação de réplicas em dois estágios. Recobrimento de réplicas. A introdução da técnica de folha fina (thin foil) na microscopia eletrônica de transmissão constituiu a verdadeira abertura deste aparelho ao domínio da materialografia, estendendo o exame da superfície para o interior dos materiais. Folhas finas de metais têm dimensões típicas de um disco de 3 mm de diâmetro com uma espessura da ordem de 100 nm, na região observada, afim de que sejam transparentes ao feixe de elétrons. O processo de obtenção das mesmas deve preservar o quanto possível as características da amostra maciça, e não ser modificada pelo método de preparação. Tipicamente, a preparação de uma amostra metálica para exame no MET consiste em dois estágios: corte de um disco e perfuração. O corte é realizado por serras especiais ou eletroerosão, para se obter uma fatia da amostra. Em seguida, fabrica-se um disco de 3 mm de diâmetro, com um punção em tudo similar a um furador de papéis. Por processos abrasivos, obtem-se uma espessura da ordem de 10 a 1 m. A obtenção da seção transparente aos elétrons, de espessura da ordem de 100 nm, é obtida por desbaste até perfuração. Em torno deste furo tem-se uma área com a espessura requerida. O principal processo é o de ataque eletroquímico. Equipamentos para corte dos discos. (a) Equipamento para obtenção de uma “covinha” (dimple) no centro do disco. (b) Ferramenta para abrasão e suporte do disco. Obtenção da “covinha” central utilizando uma solução química. Polimento eletrolítico pelo método da janela. (a) Uma lâmina de metal ( 100mm2) é esmaltada nas suas extremidades, e transformada em anodo de uma célula eletrolítica. (b) A perfuração inicial ocorre na extremidade superior da lâmina, que é recoberta com esmalte. A lâmina é invertida 1800, e o processo de perfuração continua, para garantir que o afinamento final da espessura esteja localizado na posição central da lâmina. Representação esquemática da técnica de polimento eletrolítico duplo utilizado no afinamento final de lâminas finas metálicas. (a) Diagrama esquemático de uma perfuração com feixe de íons. Gás argônio penetra em uma câmara de ionização, onde um potencial de até 6keV cria um feixe de íons de argônio, que incidem na amostra girante. A amostra está sob vácuo, e é refrigerada com nitrogênio líquido. A perfuração é detectada pela penetração de íons na amostra. (b) Aparelho típico de perfuração por íons. Porta-amostras. Preparação de amostras. INFORMAÇÕES FORNECIDAS Obtida uma amostra fina e representativa, o MET permite obter três tipos de informações: Imagem em campo claro e em campo escuro, referente à microestrutura; Figura de difração, referente à cristalografia, estrutura e composição; Análise de raios-X, referente à composição elementar. FORMAÇÃO DA IMAGEM As amostras examinadas no MET são finas a ponto de serem transparentes aos elétrons, e sob este aspecto o MET se assemelha ao microscópio ótico operado em modo de transmissão. Mas esta semelhança é apenas aparente, pois os mecanismos de contraste são muito diferentes, principalmente para amostras cristalinas. As dimensões da periodicidade dos sólidos, em relação ao comprimento de onda da luz e dos elétrons, determina que em microscopia ótica absorção e interferência regem os processos de geração de contraste, enquanto em microscopia eletrônica a deflexão do feixe por espalhamento e difração são os principais responsáveis. No MET duas classes distintas de contraste são normalmente consideradas: contraste de absorção; contraste de difração; Ambos os contrastes são originados basicamente devido ao espalhamento(resultante das interações) em várias direções de uma fração dos elétrons que compõem o feixe incidente e da interseção daqueles espalhados a partir de determinado ângulo pelo diafragma da lente objetiva. Temos portanto na formação do contraste uma componente devido à amostra e outra componente devido ao aparelho. O contraste se produz assim por subtração de determinada fração espalhada. Interação do feixe de elétrons incidentes com amostra sólida: a) amostra amorfa (espalhamento); b) amostra cristalina (difração). O contraste de absorção (também chamado de difusão) ocorre em decorrência do espalhamento de elétrons, sendo função crescente do número atômico da amostra e de sua espessura. Seja uma amostra na qual em uma matriz do elemento A, de baixo número atômico, está contida uma partícula B, de mais elevado número atômico. Um feixe de elétrons incidentes sobre a amostra é espalhado elasticamente, e emerge na face oposta desviado da direção do feixe original. Os elétrons incidentes sobre B serão mais espalhados, e retidos pela utilização de um diafragma de abertura, resultando em menor intensidade da parte da imagem correspondente, uma vez que a esta partícula corresponde um déficit de iluminação. Quanto menor for o diafragma da objetiva, mais marcante será o contraste de absorção. Este diafragma é chamado de diafragma de contraste, e apresenta correntemente um diâmetro da ordem de 25 m. Este tipo de contraste analisado é o principal responsável pela formação de imagem em materiais amorfos, materiais biológicos e réplicas de superfícies. Contraste de absorção em uma amostra com elementos A e B de diferentes pesos atômicos. O contraste de difração ocorre em decorrência do fato dos elétrons, da mesma maneira que raios-X, sofrerem difração em um arranjo cristalino de átomos, através da equação de Bragg. Quando um feixe de elétrons passa por uma lâmina fina de material cristalino, devido ao pequeno comprimento de onda dos elétrons os ângulos de Bragg são muito pequenos. Assim, somente aqueles planos quase paralelos ao feixe incidente contribuem para a figura de difração Conforme utilizemos os elétrons difratados ou os elétrons transmitidos para se formar a imagem, obteremos os chamados campo escuro e campo claro, respectivamente. A operação de cada uma destas técnicas está ligada à presença ou não do diafragma de contraste na lente objetiva. Este tipo de contraste analisado é o principal responsável pela formação de imagem em materiais cristalinos, metálicos ou não metálicos. Formação de imagem de material cristalino no MET. Micrografias obtidas por MET de aço inoxidável austenítico, mostrando precipitados em discordâncias, aumento de 40.000X. (a) campo claro; (b) campo escuro. Contraste de orientação cristalina. Contraste de discordâncias. Os esquemas anteriormente citados de formação de contraste pelos mecanismos de absorção e difração são na realidade aproximações para o entendimento do fenômeno. Dois outros métodos de ataque ao problema existem e são conhecidos na literatura por teoria cinemática e teoria dinâmica de formação de imagens. Para explicar os contrastes observados nas descontinuidades de uma rede cristalina, torna-se necessário calcular a intensidade difratada por um cristal perfeito e então verificar como esta intensidade é modificada pelas descontinuidades. A teoria cinemática consiste basicamente em somar a amplitude de todas as ondas espalhadas pelos diversos centros difusores do material. A teoria dinâmica consiste em se solucionar as equações de onda para os elétrons no interior do material sendo observado. DIFRAÇÃO NO MET O método tadicional para avaliação da orientação cristalográfica de um material no MET é o uso da chamada difração de área selecionada (SAD: selected area diffraction). Diagrama SAD de um monocristal de alumínio com um eixo de zona próximo de <110>. Para utilizar a difração de elétrons na determinação da orientação da rede cristalina, o volume de interesse é irradiado com um feixe de elétons paralelos no MET. Para conseguir uma resolução elevada, o volume transmitido deve ter pequena espessura, para evitar efeitos múltiplos de difração. Para análise de pequenas regiões da amostra, á área observada é reduzida, pela introdução de uma abertura apropriada no plano da primeira imagem ampliada, que possui um aumento típico de 25X. Então, uma abertura de 50μm selecionará uma área de tamanho 2μm na amostra. O diagrama de difração que aparece no plano focal posterior da lente objetiva é então focalizado no visor do equipamento ou numa placa fotográfica. Para um monocristal, a difração de elétrons fornece um diagrama composto por um arranjo de spots individuais de difração, que serão indexados para fornecer a orientação cristalográfica. Diagrama de raios para um microscópio de dois estágios, mostrando as posições das figuras difratadas (DD’ e EE’) e das imagens (BB’ e CC’). Diagrama esquemático mostrando a geometria de formação de uma figura de difração. Os spots de difração são formados por espalhamento elástico coerente dos elétrons na rede cristalina. Como o comprimento de onda da radiação é muito pequeno, os ângulos de difração entre os planos de reflexão da rede e o feixe primário também são muito pequenos – menor que 2º. Desta forma, todos os planos de reflexão estão situados quase que paralelos ao feixe primário ou, em outras palavras, o eixo primário é um eixo de zona dos planos de reflexão. LdR L R dsen send khl hkl 2 2 2 L é a distância entre a amostra e a placa fotográfica, e R é a distância entre o feixe primário e o spot hkl. A expressão L representa a ampliação do diagrama de difração, é constante para radiação monocromática, e é chamado de constante de câmara. Aplicando a equação de Bragg para esta situação, pode- se escrever: Uma vez que o comprimento de onda dos elétrons é muito pequeno, os ângulos de Bragg são também muito pequenos. Todo spot de difração no MET representa um ponto do espaço recíproco que, por sua vez, corresponde a um plano (hkl) no espaço real. O diagrama de difração corresponde então a uma seção plana através do espaço recíproco, perpendicular ao feixe incidente. A demonstração utiliza a esfera de Ewald e a aplicação da equação de Bragg com comprimento de onda de elétrons muito pequeno. O raio da esfera de Ewald tende para infinito, isto é, a esfera se transforma em um plano. Como esta esfera é o lugar geométrico dos planos (hkl) no espaço recíproco que difratam a radiação, então o diagrama de difração corresponde ao espaço recíproco, com os spots representando estes planos (hkl). Diagrama esquemático mostrando uma figura de difração de um monocristal Formação de spots de difração. Feixe primário como eixo de zona para diversos planos de difração. Diagrama de difração indexado de um eixo de zona [101]. Indexação dos spots do diagrama de difração: 1) Escolher um spot para ser a origem. 2) Medir o espaçamento de um spot r1. 3) Medir o espaçamento de outro spot r2. 4) Medir o ângulo entre os dois spots. 5) Preparar uma tabela com a relação dos espaçamentos de planos permitidos para difração na estrutura conhecida. 6) Tomar a relação r1/r2 medida e localizar um valor próximo na tabela. 7) Marcar o plano de maior espaçamento (menores índices de Miller) com o menor valor de r. 8) Calcular o ângulo entre pares de planos do tipo que foi anteriormente indexado. 9) Se o ângulo experimental coincidir com um dos possíveis valores, aceitar a indexação. Caso contrário, voltar à tabela e selecionar outro possível par de planos. 10) Finalmente, indexar o diagrama por adição vetorial. d Lr 1 A distância r entre um spot de difração e o spot do feixe direto no diagrama de difração varia inversamente com o espaçamento d dos planos (hkl) que geraram este spot. O diagrama de difração no MET é um conjunto de pontos (spots) no casode um monocristal, e círculos concêntricos no caso de um policristal. Tipos de diagramas de difração obtidos com diferentes microestruturas. (a) Um monocristal perfeito. ( (b) Um pequeno número de grãos – os spots começam a se transformar em círculos. (c) Um número elevado de grãos aleatoriamente orientados – o diagrama transformou-se em anéis. a) Esquema de formação de anéis de difração em amostras policristalinas. b) Diagrama de difração de amostra de alumínio fracamente texturada. c) Diagrama de difração de amostra de alumínio fortemente texturada. Quando se constroi um diagrama de difração de uma amostra policristalina, obtem-se anéis concêntricos, como na análise por raios-X atavés da técnica de Debye-Scherrer. Cada um destes anéis se forma por acúmulo de reflexões hkl da enorme quantidade de planos hkl diferentemente orientados da amostra. Os diâmetros dos anéis estão referenciados com o ângulo 4θ, de acordo com a equação de Bragg. A distribuição da intensidade da radiação difratada serve para caracterizar a possível presença de textura na amostra. Em geral a difração de um feixe de elétrons consiste de espalhamento elástico. Por outro lado, caso a amostra seja relativamente mais espessa, espalhamento inelástico também vai ocorrer. Como conseqüência, elétrons serão espalhados em todas as direções, ainda que preponderantemente na direção frontal. Este fenômeno pode ser percebido no diagrama de difração por uma região difusa ao redor do spot central, uma vez que mais elétrons serão espalhados para a frente do que lateralmente. Para esta situação, um outro fenômeno de difração vai ser observado: as linhas de Kikuchi. Elétrons que foram espalhados inelasticamente podem ser difratados, mas somente se eles se deslocam de acordo com o ângulo de Bragg B em um conjunto de planos (hkl). Dois conjuntos de elétrons serão capazes de difratar: aqueles relacionados com +B e aqueles relacionados com -B. Esta difração resulta em mudanças de intensidade no diagrama. Uma vez que há mais elétrons em A do que em B (já que os elétrons que passam por A estão mais próximos da direção incidente do que os elétrons que passam por B), uma linha brilhante (linha reforçada) será desenvolvida juntamente com uma linha escura (linha enfraquecida). Uma vez que os elétrons são espalhados inelasticamente em todas as direções, os elétrons difratados formarão um cone, não um feixe. Portanto, são observadas linhas de Kikuchi, não spots de Kikuchi. O espaçamento do par de linhas de Kikuchi é o mesmo espaçamento entre spots no diagrama de difração do mesmo plano. Entretanto, a posição das linhas é muito sensível à orientação da amostra, e as linhas de Kikuchi são geralmente usadas para determinar a orientação de um cristal no MET com uma precisão de 0,01º. Intensidade do espalhamento inelástico em função do ângulo de espalhamento. (a) Diagrama de raios mostrando a geometria das linhas de Kikuchi. (b) Intensidade do espalhamento inelástico quando as linhas de Kikuchi são produzidas. Representação esquemática (A) de todos os espalhamentos de elétrons localizados em um ponto na amostra. Em (B) alguns dos elétrons espalhados são difratados, porque eles viajam em um ângulo B de Bragg para certos planos hkl. Os elétrons difratados formam cones de Kossel centrados no ponto P nos planos difratados. O feixe difatado que estava inicialmente mais próximo do eixo ótico gera uma linha reforçada, enquanto o outro feixe gera uma linha enfraquecida. Em (C) os cones interceptam a esfera de Ewald, criando parábolas que se aproximam de retas, devido ao valor pequeno para B . Spots de difração e linhas de Kikuchi em uma amostra de aço inoxidável austenítico. Formação de linhas de Kikuchi no MET. (a) Origem das linhas de Kikuchi por espalhamento inelástico de elétrons , criando difração de Bragg no ponto S em planos (hkl). (b) Linhas de Kikuchi em um aço austenítico (voltagem de aceleração de 200kV). (c) Formação de linhas reforçadas e enfraquecidas. Diagramas ilustrando a análise de linhas de Kikuchi no MET. (a) Correlação entre a amostra e a formação das linhas de Kikuchi. (b) Indexação das linhas de Kikuchi. Formação de linhas de Kikuchi no MET. (a) Feixe paralelo, amostra espessa. (b) Feixe convergente, amostra fina. MET FRATOGRAFIA MICROESTRUTURAS BIOLÓGICAS MICROESTRUTURAS DE ENGENHARIA EXEMPLOS DE APLICAÇÃO DO MET DIAGRAMAS DE DIFRAÇÃO Alga verde. Virus da gripe espanhola de 1918. Virus Ebola. Fibra de aspargos. Leucócito humano. Intestino humano. Virus HIV. Réplica de fratura por fadiga em liga de alumínio. Réplica de fratura dúctil em aço. Réplica de fratura frágil e fratura dúctil em aço AISI-4315. Réplica de fratura intergranular (corrosão sob tensão) em aço AMS-6434. Contraste de discordâncias. (a) g.b # 0. (b) g.b = 0. Discordâncias em um aço inoxidável, observadas em um MET. Imagem no MET de uma folha de aço inoxidável 18Cr-8Ni, mostrando o arranjo de discordâncias ao longo de um plano de deslizamento. Anéis de lacunas formados em uma amostra de níquel, aquecida a 660oC por 10 mim, e temperada em nitrogênio líquido. Discordâncias em uma amostra de titânio observada em um MET. Emissão de discordâncias a partir de um contorno de grão. Fonte de Frank-Read em uma amostra de silício. Fonte de Frank-Read em uma amostra de alumínio. Rede de discordâncias em uma amostra de ferro normalizado. MET, 50.000X. Grupo de falhas de empilhamento em um aço SAE 302, barradas em um contorno de grão. Falhas de empilhamento em um aço 18Cr-8Ni. Alumínio – elevada EDE Cobre – baixa EDE Cu-7%Al – baixíssima EDE Multiplicação de discordâncias durante a deformação plástica, superliga Hastelloy. a) Material recozido; b) Material deformado 5%; c) Material deformado 15%. Desenvolvimento de subestruturas de discordâncias em uma amostra de níquel, em função da deformação plástica por laminação a frio. (a) 20% de redução. (b) 40% de redução. (c) 80% de redução. Empilhamento de discordâncias em contorno de grão de aço inoxidável. Interface de uma macla em cobre. Cada ponto representa uma coluna de átomos alinhada com a direção de observação. A orientação dos dois cristais é diferente, e a interface é claramente visível. Corte de precipitados por discordâncias. Liga Ni-19%Cr-6%Al. Dobramento de discordâncias em precipitados. Liga Al-0,2%Au. Sub-grãos formados em amostra de alumínio. Partículas de carboneto de vanádio em aço microligado. Precipitação de carboneto de nióbio em contornos de sub-grãos de aço microligado. (a) Precipitados ’ (CuAl2) numa liga Al-Cu envelhecida a 240oC. (b) Precipitados ’ na matriz e no contorno de grão (MgZn2) numa liga Al- 6Zn-3Mg envelhecida a 180oC. (c) Precipitados ’ numa liga Al-Li envelhecida a 190oC, incluindo precipitação numa partícula ’ (Al3Zr). (a) (b) (c) Liga de alumínio Al-7050. 12.000X Liga de alumínio Al-8090. 5.000X 0,67 m 0,34 m Liga de alumínio Al-2024. 30.000X Liga de alumínio Al-8090. 60.000X Carbono amorfo Alumínio monocristalino Ouro policristalino Silício iluminado com um feixe convergente de elétrons