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Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP PSI3322 - ELETRÔNICA II Prof. João Antonio Martino AULA 12 Projeto Amplificador de pequenos sinais MOS para experimento 06 do Lab. de Eletrônica. Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP PSI3322 - ELETRÔNICA II (capítulos 4, 6, 7, 8) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Holodeck é uma espécie de sala,quarto ou câmara negra com grades, que projeta, por meio de um computador, simulações no qual é possível transformar energia em matéria permitindo, quando acionado, o usuário interagir com coisas ou pessoas virtuais – no livro é citado como “hologramas, temporariamente materializados”. Star trek New Generation (1987) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP CAVERNA DIGITAL 2001 LSI/PSI/USP - Brasil Prof. Dr. Marcelo Zuffo Prof. Dr. Sergio Takeo Kofuji Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Realidade Virtual em 2016 (Cabe no bolso – Smartphone) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP N +N + Dopagem de Fósforo Alumínio SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Evolução dos Transistores MOSFET (por João Antonio Martino) • A definição da porta de Alumínio era feita após a difusão de fonte e dreno. N+ N+ Porta DrenoFonte P Metal Oxido Semic. Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP N +N + Dopagem de Fósforo Alumínio SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Evolução dos Transistores MOSFET (por João Antonio Martino) • A definição da porta de Alumínio era feita após a difusão de fonte e dreno. O Prof. Laganá fez sua dissertação de mestrado neste tipo de transistor (nMOSFET com porta de Alumínio) N+ N+ Porta DrenoFonte P Metal Oxido Semic. Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP N +N + Dopagem de Fósforo e/ou Arsênio SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Si-poli N+ • A implantação da fonte e dreno é feita após a definição da porta de silício-policristalino tornando o transistor auto alinhado •Facilita a obtenção de varias camadas de interligação N +N + Dopagem de Fósforo Alumínio SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Evolução dos Transistores MOSFET (por João Antonio Martino) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP nMOSFET com porta de silício Policristalino Transistor projetado e fabricado na Escola Politécnica da USP Dissertação de Mestrado – João Antonio Martino (1984) Porta (G) Dreno (D) Fonte (S) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP PSI3463 (Disciplina de graduação da USP) Laboratório de Fabricação de Circuitos Integrados (Tecnologia NMOS polysilicon-gate) Anualmente para os alunos de Graduação da USP Prof. João Martino Prof. Marcelo Carreno Atualmente na USP Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP • (Silicon-On-Insulator) SOI MOSFET N +N + SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Si-poli N+ N +N + SiO2 Si - P Fonte Dreno Porta Si-poli N+ P Evolução dos Transistores MOSFET (por João Antonio Martino) • MOSFET convencional SiO2 • Transistor SOI MOSFET apresenta melhor efeito de canal curto Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP GC SOI MOSFET (Contribuição Brasileira) (Graded Channel) USP/Brazil-UCL/Belgium Advantages of GC SOI : • Higher gm • Lower (better) gD (higher VEA) • Higher AV • Larger Breakdown voltage • Reduced Harmonic Distortion * M. A. Pavanello, J. A. Martino e D. Flandre; Solid State Electronics,2000 Substrate DrainSource N+ N+P P- Gate Silícon P- Si-Poly N+ toxf tsi toxb LLD L SiO2 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 0 10 20 30 40 50 I D S [ A ] V DS [V] Conventional SOI GC SOI - L LD /L=0.15 GC SOI - L LD /L=0.35 GC SOI - L LD /L=0.42 L LD /L L=2m V GT =V GF -V T = 200mV Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Estrutura BE SOI MOSFET Novo Transistor: BE SOI MOSFET (Back Enhanced Silicon-On-Insulator MOSFET) (1o Transistor Reconfigurável do Brasil) Principais Caracteristicas: Não precisa de dopagem; Pode funcionar como nMOS (VGB >>0) or pMOS (VGB << 0); Aplicações como sensor… *J. A. Martino and R. C. Rangel, “BE SOI MOSFET” patent BR 10 2015 020974 6, Agosto de 2015. SiO2 Porta DrenoFonte VGB VDS VGF Si-P Si-P VDS VGF VGB >> 0 NMOS – – – – –– – – – SiO2 VDS VGF VGB >> 0 – – – –– – Depletado SiO2 SiO2 SiO2 Porta SiO2 Porta Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Estrutura BE SOI MOSFET Novo Transistor: BE SOI MOSFET (Back Enhanced Silicon-On-Insulator MOSFET) (1o Transistor Reconfigurável do Brasil) Principais Caracteristicas: Não precisa de dopagem; Pode funcionar como nMOS (VGB >>0) or pMOS (VGB << 0); Aplicações como sensor… *J. A. Martino and R. C. Rangel, “BE SOI MOSFET” patent BR 10 2015 020974 6, Agosto de 2015. SiO2 Porta DrenoFonte VGB VDS VGF Si-P Si-P SiO2 SiO2 VDS VGF VGB << 0 PMOS + ++ + ++ ++ ++ + ++ + SiO2 Porta Si-P SiO2 VDS VGF VGB << 0 Depletado+ +++ + ++ + Porta SiO2 Si-P Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Novo Transistor: BE SOI MOSFET (Back Enhanced Silicon-On-Insulator MOSFET) (FLEX Transistor) Bio-FET (BE SOI MOSFET) Buried Oxide Substrate Gate Drain electrode Source electrode Gate oxide Biological material VGF Gate Oxide Buried Oxide Gate DrainSource Substrate VGB VDS LightLight BE SOI MOSFET as a light sensor *J. A. Padovese, et al; Back Enhanced SOI MOSFET as UV Light Sensor; 2018 33rd Symposium on Microelectronics Technology and Devices (SBMicro), Bento Gonçalves, IEEExplorer, v.1, p.1, 2018. * YOJO, L. S. et al; Optimization of the permittivity- based BE SOI biosensor; 2018 IEEE SOI-3D- Subthreshold Microelectronics Technology Unified Conference (S3S), San Francisco, IEEExplorer. v.1. p.1, 2018 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Gate Source Drain Buried oxide Back gate (substrate) Source Drain Gate ID Buried oxide Tri-Gate with 800C 600Torr 5min H2Anneal Fins are 45x78nm, Nice corner rounding by H2 anneal 20 nm Polysilicon Gate Silicon Fin Buried Oxide Gate Source Drain BOX G at e G at e “1 Porta” “2 Portas” “3 Portas” Evolução dos Transistores “Porta circundante” Source Drain Gate Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP SOI FinFET de Porta Tripla (Vertical) Transistor mais utilizado nos circuitos integrados mais modernos Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP * RANGEL, R. ; POJAR, M.; SEABRA, A.C.; SANTOS Filho, S.G.; MARTINO, J. A, SBMicro 2013, Curitiba, Proc. IEEExplorer, p.1-5. Primeiro Transistor 3D (2012) (SOI FinFET de porta tripla) USP/Brazil (2012) (feixe de eletrons) 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 V GB = 0V V D (V) I D ( A ) VGF = -0.50V VGF = -0.25V VGF = 0V VGF = 0.25V VGF = 0.50V VGF = 0.75V VGF = 1V WFIN= 50-100nm, HFIN= 100nm, tox= 4.5nm, tbox = 200nm, L = 2.5m, Si-Poli * MARTINO, J. A, FAPESP Week, Salamanca, Spain, December,12, 2012 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Primeiro Transistor FinFET (3D) (construído com litografia de feixes de elétrons) USP/Brazil (2012) (feixe de eletrons) * RANGEL, R. ; POJAR, M.; SEABRA, A.C.; SANTOS Filho, S.G.; MARTINO, J. A, SBMicro 2013, Curitiba, Proc. IEEExplorer, p.1-5. * MARTINO, J. A, FAPESP Week, Salamanca, Spain, December,12, 2012 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP 1 Porta “Single Gate” SOI MOSFET (Planar) 2 ou 3 Portas “FinFET” (Vertical-3D) N+ N+ P Gate DrainSource 1 Porta “Single Gate” Bulk – MOSFET (Planar) G DS Evolução do MOSFET (principais etapas) N+ N+ P Gate DrainSource Tri-Gate with 800C 600Torr 5min H2Anneal Fins are 45x78nm, Nice cornerrounding by H2 anneal 2 0 n m Gate Silicon Fin Buried Oxide Gate Source Drain Buried oxide Back gate (substrate) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET RS RD RG2 RG1 C1 C2 CS VDD = 15 V RL 100 k AC 100 mVpp Rsig 4,7 k Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET RS RD RG2 RG1 C1 C2 CS VDD = 15 V RL 100 k AC 100 mVpp Rsig 4,7 k Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais VS = VDD/3 = 5 V VD = 2.VDD/3 = 10 V Dados do NMOS: Vt = tensão de limiar = 1,09 V kn’= 0,04 mA/V2 W/L = 230m/10m kn’.(W/L) = 0,92 mA/V2 Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Parâmetros iniciais Valores VDD +15V Corrente de dreno (ID) 0,11 mA Sinal de entrada (freq. médias) Onda senoidal de 1 kHz e 100 mVpico-pico Resistência do gerador de entrada (Rsig) 4,7 kΩ Resistência de entrada (Rin) 545 kΩ Resistência de carga (RL) 100 kΩ Frequência de corte inferior (fL) ≤ 110 Hz Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET VS = VDD/3 = 15/3 = 5 V Como ID= 0,11mA Então RS = VS ID = 5 0,11m = 45,46 kΩ RS = 47kΩ (valor comercial) Recalculamos VS : VS = RS. ID = 47k. 0,11m = 5,17 V Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais VD = 2 3 ∗ VDD = 10V RD = VDD − VD ID = 15 − 10 0,11m = 45,46kΩ RD = 47kΩ (valor comercial) Recalculamos VD VD = VDD − RD. ID = 15 − 47k. 0,11 = 9,83 V Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais A tensão na porta é calculada assumindo que o transistor está na região de saturação. Depois comprovaremos se nossa premissa inicial estava correta. Vamos desprezar a modulação de canal (Efeito Early). ID = 1 2 kn ′ . W L . VGS − Vt 2 Portanto: VGS − Vt = 2.ID kn ′ . W L 2. 0,11m 0,04m. 230 10 = 0,49V = Vov VGS = Vov + Vt = 0,49 + 1,09 = 1,58 V VG = VGS + VS = 1,58 + 5,17 = 6,75V Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais 𝑉𝐺 = 𝑅𝐺2 𝑅𝐺1 + 𝑅𝐺2 . 𝑉𝐷𝐷 = 𝑅𝐺2 𝑅𝐺1 + 𝑅𝐺2 . 15 = 6,75 𝑉 (1) Rin = RG1//RG2= RG1.RG2/(RG1 + RG2) = 545 kΩ (2) De (1) e (2) obtém-se RG1 = 1,21 MΩ e RG2 = 1,01 MΩ Adotando-se os valores comerciais mais próximos: RG1 = 1,2 MΩ e RG2 = 1 MΩ Com estes valores comerciais teremos VG = 6,82 V 𝑉𝑆 = 𝑉𝐺 − 𝑉𝐺𝑆 = 6,82 − 1,58 = 5,24 𝑉 Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Resumo dos valores de tensão e corrente CC: VD = 9,83V VS = 5,24V VG = 6,82V VDS = 4,59V VGS = 1,58V ID = 0,11mA IRG2 = VG/RG2 = 6,62 μA = IRG1 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Para garantir que o transistor esteja ne região de saturação ele deve cumprir com a seguinte condição: VDS ≥ VGS − Vt VDS = 4,59V > VGS − Vt = 0,49V (cumpre a condição) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Cálculo do Ganho para pequenos sinais em frequência médias 𝑅𝐺 = 𝑅𝐺1 ∥ 𝑅𝐺2 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Rin = RG = RG1 ∥ RG2 = 545 kΩ Assumiremos também que ro = ∞ (transistor MOS de canal longo) vi = Rin Rin + Rsig vsig = RG RG + Rsig vsig = 545k 545k + 4,7k vsig = 0,99vsig gm = 2ID VGS − Vt = 2 ∗ 0,11mA 1,58V − 1,09V = 0,45 mA V Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET O ganho de tensão AV = vo/vi é portanto: Av =−gm.(RD//RL) = −0,45m.(47k//100k) = −14,39 V/V→ 23,16 dB O ganho de tensão em circuito aberto é: AV0 = −gmRD = −0,45m. 47k = −21,15 → 26,51dB O ganho de tensão global (GV = vo/vsig): Gv = RG RG + Rsig Av = −14,25 = 23,08dB Gv0 = − RG RG + Rsig AV0 = −20,94 = 26,42dB Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET RS RD RG2 RG1 C1 C2 CS VDD = 15 V RL 100 k AC 100 mVpp Rsig 4,7 k ωeq = 1 CeqReq Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET ωeq = 1 CeqReq Vg Vo Vsig Id RD RS Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET ωeq = 1 CeqReq Valores da Req para cada capacitor: RC1 = RG + Rsig para o Capacitor C1 = 550 kΩ RC2 = RD + RL para o Capacitor C2 = 147 kΩ RCS = RS ∥ 1 gm para o Capacitor CS = 2,12 kΩ Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Cálculo do CS: ωCS = 2πfL = 2π. 110 = 691,15 rad/s CS = 1 ωCSRCS = 682,50 nF CS = 680nF (valor comercial) Recalculando fL para o valor Cs comercial: fL = 1 2π ∗ CSRCS = 𝟏𝟏𝟎 𝐇𝐳 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET Cálculo do C1: ωC1 = 2πfL 10 = 69,12 rad/s (10x menor que ωCS) C1 = 1 ωC1RC1 ≥ 26,30 nF C1 = 33nF (valor comercial) Cálculo do C2: ωC2 = 2πfL 10 = 69,12 rad/s (10x menor que ωCS) C2 = 1 ωC2RC2 ≥ 98,42 nF C2 = 150nF (valor comercial) Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP Projeto de um amplificador para pequenos sinais Exp. 6: Amplificador para Pequenos Sinais usando MOSFET RS 47k RD 47k RG2 1M RG1 1.2M C1 33nF C2 150nF CS 680nF VDD = 15 V RL 100 k AC 100 mVpp Rsig 4,7 k Circuito a ser montado e analisado na Exp. 6 de PSI3323 Universidade de São Paulo PSI3322 - João A. Martino – PSI/EPUSP PSI3322 - ELETRÔNICA II (capítulos 4, 6, 7, 8) Slide 1: PSI3322 - ELETRÔNICA II Prof. João Antonio Martino AULA 12 Slide 2 Slide 3 Slide 4 Slide 5 Slide 6 Slide 7 Slide 8 Slide 9 Slide 10: Anualmente para os alunos de Graduação da USP Slide 11 Slide 13 Slide 14 Slide 15 Slide 16 Slide 17 Slide 18 Slide 19 Slide 20 Slide 21 Slide 22 Slide 23 Slide 24 Slide 25 Slide 26 Slide 27 Slide 28 Slide 29 Slide 30 Slide 31 Slide 32 Slide 33 Slide 34 Slide 35 Slide 36 Slide 37 Slide 38 Slide 39 Slide 40